A VeTek semiconductor a tantál-karbid bevonóanyagok vezető gyártója a félvezetőipar számára. Fő termékkínálatunkban megtalálhatók a CVD-tantál-karbid bevonat alkatrészek, a szinterezett TaC bevonat alkatrészek SiC kristálynövekedéshez vagy félvezető epitaxiás folyamathoz. Az ISO9001 tanúsítvánnyal rendelkező VeTek Semiconductor jól szabályozza a minőséget. A VeTek Semiconductor elkötelezett amellett, hogy újítóvá váljon a tantál-karbid bevonat iparban az iteratív technológiák folyamatos kutatása és fejlesztése révén.
A fő termékek aTaC bevonatú vezetőgyűrű, CVD TaC bevonatú háromszirom vezetőgyűrű, Tantál-karbid TaC bevonatú Halfmoon, CVD TaC bevonatú planetáris SiC epitaxiális szuszceptor, Tantál-karbid bevonógyűrű, Tantál-karbid bevonatú porózus grafit, TaC bevonat rotációs szuszceptor, Tantál-karbid gyűrű, TaC bevonat forgólap, TaC bevonatú ostya szuszceptor, TaC bevonatú terelőgyűrű, CVD TaC bevonat fedél, TaC bevonatú tokmánystb., a tisztaság 5 ppm alatt van, megfelel az ügyfelek igényeinek.
A TaC bevonatú grafitot egy nagy tisztaságú grafit szubsztrátum felületének finom tantál-karbid réteggel való bevonásával állítják elő szabadalmaztatott vegyi gőzleválasztásos (CVD) eljárással. Az előny az alábbi képen látható:
A tantál-karbid (TaC) bevonat magas, akár 3880°C-ig terjedő olvadáspontja, kiváló mechanikai szilárdsága, keménysége és hősokkállósága miatt keltett figyelmet, így vonzó alternatívája a magasabb hőmérsékleti igényű összetett félvezető epitaxiás eljárásoknak. mint például az Aixtron MOCVD rendszer és az LPE SiC epitaxiás eljárás. Széles körben alkalmazható a PVT módszer SiC kristálynövekedési folyamatában is.
Főbb jellemzők:
●Hőmérséklet stabilitás
●Ultra magas tisztaságú
●Ellenállás H2, NH3, SiH4,Si
●Hőanyaggal szembeni ellenállás
●Erős tapadás a grafithoz
●Konform bevonat lefedettség
● Méret akár 750 mm átmérőig (az egyetlen gyártó Kínában eléri ezt a méretet)
Alkalmazások:
●Ostyahordozó
● Induktív fűtési szuszceptor
● Ellenállásos fűtőelem
●Műholdas lemez
●Zuhanyfej
●Vezetőgyűrű
●LED Epi vevő
●Befecskendező fúvóka
●Maszkoló gyűrű
● Hővédő pajzs
Tantál-karbid (TaC) bevonat mikroszkopikus keresztmetszeten:
A VeTek Semiconductor tantál-karbid bevonat paramétere:
|
A TaC bevonat fizikai tulajdonságai
|
|
Sűrűség
|
14,3 (g/cm³)
|
|
Fajlagos emissziós tényező
|
0.3
|
|
Hőtágulási együttható
|
6,3 10-6/K
|
|
Keménység (HK)
|
2000 HK
|
|
Ellenállás
|
1×10-5Ohm*cm
|
|
Hőstabilitás
|
<2500 ℃
|
|
A grafit mérete megváltozik
|
-10-20um
|
|
Bevonat vastagsága
|
≥20um tipikus érték (35um±10um)
|
TaC bevonat EDX adatok：
TaC bevonat kristályszerkezeti adatok:
|
Elem
|
Atom százalék
|
|
|
Pt. 1
|
Pt. 2
|
Pt. 3
|
Átlagos
|
|
C K
|
52.10
|
57.41
|
52.37
|
53.96
|
|
A M
|
47.90
|
42.59
|
47.63
|
46.04
|
