Termékek

Tantál-karbid bevonat

A VeTek semiconductor a tantál-karbid bevonóanyagok vezető gyártója a félvezetőipar számára. Fő termékkínálatunkban megtalálhatók a CVD-tantál-karbid bevonat alkatrészek, a szinterezett TaC bevonat alkatrészek SiC kristálynövekedéshez vagy félvezető epitaxiás folyamathoz. Az ISO9001 tanúsítvánnyal rendelkező VeTek Semiconductor jól szabályozza a minőséget. A VeTek Semiconductor elkötelezett amellett, hogy újítóvá váljon a tantál-karbid bevonat iparban az iteratív technológiák folyamatos kutatása és fejlesztése révén.

A fő termékek a TaC bevonatú vezetőgyűrű, CVD TaC bevonatú háromszirmú vezetőgyűrű, tantál-karbid, TaC bevonatú félhold, CVD TaC bevonatú planetáris SiC epitaxiális szuszceptor, tantál-karbid bevonatgyűrű, tantál-karbid bevonatú porózus grafit, TaC bevonatú TaC-lemezes bevonat, TaC-bevonat, Rotát, TaC bevont ostya szuszceptor, TaC bevonatú terelőgyűrű, CVD TaC bevonat fedél, TaC bevonatú tokmány stb., a tisztaság 5 ppm alatt van, megfelel az ügyfelek igényeinek.

A TaC bevonatú grafitot egy nagy tisztaságú grafit szubsztrátum felületének finom tantál-karbid réteggel való bevonásával állítják elő szabadalmaztatott vegyi gőzleválasztásos (CVD) eljárással. Az előny az alábbi képen látható:

Excellent properties of TaC coating graphite


A tantál-karbid (TaC) bevonat magas, akár 3880°C-ig terjedő olvadáspontja, kiváló mechanikai szilárdsága, keménysége és hősokkállósága miatt is felkeltette a figyelmet, így vonzó alternatívája a magasabb hőmérsékleti igényű összetett félvezető epitaxiás eljárásoknak, mint például az Aixtron MOCVD rendszernek és az LPE SiC epitaxiás eljárásnak. A PVT-ben széles körű SiC-növekedési eljárással is rendelkezik.


Főbb jellemzők

● Hőmérséklet-stabilitás 2500°C-ig kiváló hősokkállósággal.

● Rendkívül nagy tisztaságú (<5 ppm) és erős tapadás a grafithoz a minimális részecskeképződés érdekében.

● Kiváló ellenállás a H₂-, NH₃-, SiH₄- és Si-gőzökkel szemben kemény folyamatkörnyezetben.

● Konform bevonat, akár 750 mm átmérőig, egyedülállóan Kínában kapható.


Termékleírás

A VeTek félvezető tantál-karbid bevonat paraméterei:

A TaC bevonat fizikai tulajdonságai
Sűrűség 14,3 g/cm³
Keménység 2000 HK
Hőtágulás 6,3×10⁻⁶/K
Ellenállás 1×10⁻⁵ Ohm·cm
Hőstabilitás <2500°C
Bevonat vastagsága ≥20μm (tipikus 35±10μm)


karbid (TaC) bevonat mikroszkopikus keresztmetszeten:

the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating


TaC bevonat EDX adatok:

EDX data of TaC coating


A TaC bevonat kristályszerkezeti adatai:

Elem Atom százalék
Pt. 1 Pt. 2 Pt. 3 Átlagos
C K 52.10 57.41 52.37 53.96
Ta M 47.90 42.59 47.63 46.04


TaC Coating Chuck TaC bevonatú tokmány TaC Coating Planetary Disk TaC Coating Planetary Disk
TaC bevonatú lemez
TaC Coating Rotation Plate TaC bevonat forgólap TaC bevonat szuszceptor CVD TaC coating Cover CVD TaC bevonat Fedél CVD TaC Coating Ring CVD TaC bevonógyűrű TaC Coating Plate TaC bevonólemez


Alkalmazások

A félvezető eljárások sokrétű igényeinek kielégítésére a VeTek célzott tantál-karbid bevonat termékeket kínál. Az alábbi táblázat a fő alkalmazási területek szerint osztályozza őket, felsorolva a tipikus összetevőket és az alkalmazható folyamatokat:

Alkalmazási mező Tipikus termékek Alkalmazás leírása
SiC epitaxia CVD TaC bevonatú planetáris szuszceptor,TaC bevonatú ostya szuszceptor,TaC bevonatú vezetőgyűrű Alkalmas magas hőmérsékletű SiC epitaxiális folyamatokhoz (pl. LPE módszer), nagy termikus stabilitást és alacsony szennyeződésű interfészt biztosít a film egyenletességének biztosítása érdekében.
GaN / LED epitaxia (MOCVD) Zuhanyfej, szatellit lemez, maszkoló gyűrű, hőpajzs, befecskendező fúvóka Alkalmas Aixtron MOCVD rendszerekhez, ellenáll a H₂/NH3 korróziónak, csökkenti a részecskeszennyeződést és javítja a LED epitaxiális hozamát.
SiC kristálynövekedés (PVT módszer) TaC bevonatú porózus grafit,TaC bevonatú félhold,vezetőgyűrű,borító,tokmány PVT SiC rúdnövekedéshez használják, 2500°C-ig ellenáll, megakadályozza a grafitreakciókat és biztosítja a kristálytisztaságot.
Magas hőmérsékletű fűtő- és tartóelemek Induktív fűtési szuszceptor,rezisztív fűtőelem, ostyahordozó Alkalmas indukciós vagy rezisztív fűtési rendszerekhez, nagy keménységgel és hősokkállósággal rendelkezik, 3-5-szörösére meghosszabbítva az alkatrészek élettartamát.

Részletesebb folyamatillesztési megoldásokért tekintse meg aSzilícium-karbid epitaxiakapcsolódó pályázati oldal.


Támogatjuk a vevői igények alapján személyre szabott szolgáltatásokat. Megfelel az ISO9001 jó minőségellenőrzéssel.

Üdvözöljük, forduljon hozzánk további konzultációért, vagy hagyjon üzenetet

View as  
 
Porózus tantál-karbid (TaC) bevonatú grafitgyűrű

Porózus tantál-karbid (TaC) bevonatú grafitgyűrű

A VETEK porózus TaC bevonatú grafitgyűrű egy hőmezős komponens, amelyet a SiC egykristály növekedésére terveztek a PVT (fizikai gőzszállítás) folyamaton keresztül. Nagy tisztaságú porózus grafitból készül, és tantál-karbiddal (TaC) van bevonva CVD technológiával. A tervezés célja a magas hőmérsékleti stabilitás, a kémiai rugalmasság és a szabályozott hőtér teljesítménye. A szennyeződés minimalizálásával és a folyamat konzisztenciájának támogatásával ez az összetevő hozzájárul a reprodukálható SiC kristálynövekedési eredményekhez.
CVD tantál-karbid (TaC) bevonatú szuszceptor

CVD tantál-karbid (TaC) bevonatú szuszceptor

A VETEK CVD TaC bevonatú szuszceptor a nagy tisztaságú izosztatikus grafit szubsztrátumot sűrű CVD tantál-karbid (TaC) bevonattal kombinálja, hogy kivételes hőstabilitást, korrózióállóságot és alacsony részecskeképződést biztosítson az igényes félvezető epitaxiához. SiC, GaN és AlN epitaxiális növekedésre tervezték, minimálisra csökkenti a szennyeződést, javítja a lapkák hőmérsékletének egyenletességét, és meghosszabbítja az alkatrészek élettartamát a magas hőmérsékletű MOCVD és CVD folyamatokban.
Tantál-karbiddal (TaC) bevont porózus grafit a SiC kristálynövekedéshez

Tantál-karbiddal (TaC) bevont porózus grafit a SiC kristálynövekedéshez

A VeTek Semiconductor Tantál Carbide Coated Porous Graphite a legújabb innováció a szilícium-karbid (SiC) kristálynövekedési technológiában. A nagy teljesítményű termikus mezőkre tervezett, fejlett kompozit anyag kiváló megoldást kínál a gőzfázis-kezeléshez és a hibaelhárításhoz a PVT (Physical Vapor Transport) folyamatban.
TaC bevonatú grafit ostya fedőgyűrű

TaC bevonatú grafit ostya fedőgyűrű

A VeTek Semiconductor egy professzionális TaC bevonatú grafit ostyaborító gyűrű gyártó és szállító Kínában. nemcsak fejlett és tartós TaC bevonatú grafit ostyaborító gyűrűt biztosítunk, hanem testreszabott szolgáltatásokat is támogatunk. Üdvözöljük, hogy TaC bevonatú grafit ostya fedőgyűrűt vásároljon gyárunkból.
CVD TaC bevonatú szuszceptor

CVD TaC bevonatú szuszceptor

A Vetek CVD TaC Coated Susceptor egy precíziós megoldás, amelyet kifejezetten a nagy teljesítményű MOCVD epitaxiális növekedéshez fejlesztettek ki. Kiváló termikus stabilitást és kémiai tehetetlenséget mutat extrém magas hőmérsékletű, 1600°C-os környezetben. A VETEK szigorú CVD-leválasztási folyamatára támaszkodva elkötelezettek vagyunk a lapka növekedési egyenletességének javítása, a magkomponensek élettartamának meghosszabbítása mellett, valamint stabil és megbízható teljesítménygaranciák biztosítása minden félvezető-gyártási tételhez.
CVD TaC bevonatú grafitgyűrű

CVD TaC bevonatú grafitgyűrű

A Veteksemicon CVD TaC bevonatú grafitgyűrűjét úgy tervezték, hogy megfeleljen a félvezető lapkafeldolgozás extrém követelményeinek. A Chemical Vapor Deposition (CVD) technológiát alkalmazva sűrű és egyenletes tantál-karbid (TaC) bevonatot visznek fel a nagy tisztaságú grafitfelületekre, ami kivételes keménységet, kopásállóságot és kémiai tehetetlenséget ér el. A félvezetőgyártás során a CVD TaC bevonatú grafitgyűrűt széles körben használják MOCVD-, maratási, diffúziós és epitaxiális növekedési kamrákban, amelyek kulcsfontosságú szerkezeti vagy tömítőelemként szolgálnak ostyahordozókhoz, szuszceptorokhoz és árnyékoló szerelvényekhez. Várom további konzultációját.
Professzionális Tantál-karbid bevonat gyártóként és beszállítóként Kínában saját gyárunk van. Ha személyre szabott szolgáltatásokra van szüksége régiója speciális igényeihez, vagy fejlett és tartós Kínában gyártott Tantál-karbid bevonat terméket szeretne vásárolni, írjon nekünk.
X
Cookie-kat használunk, hogy jobb böngészési élményt kínáljunk, elemezzük a webhely forgalmát és személyre szabjuk a tartalmat. Az oldal használatával Ön elfogadja a cookie-k használatát. Adatvédelmi szabályzat
ElutasítElfogadás