A Wafer Substrate egy félvezető egykristály anyagból készült ostya. A hordozó közvetlenül beléphet a lapkagyártási folyamatba, hogy félvezető eszközöket állítson elő, vagy epitaxiális eljárással feldolgozható epitaxiális lapkák előállítására.
A Wafer Substrate, mint a félvezető eszközök alapvető tartószerkezete, közvetlenül befolyásolja az eszközök teljesítményét és stabilitását. A félvezető eszközök gyártásának "alapjaként" számos gyártási folyamatot kell végrehajtani, például vékonyréteg-növelést és litográfiát a hordozón.
Az aljzattípusok összefoglalása
- Egykristályos szilícium lapka: jelenleg a legelterjedtebb hordozóanyag, széles körben használják integrált áramkörök (IC-k), mikroprocesszorok, memóriák, MEMS-eszközök, tápegységek stb. gyártásában;
- SOI szubsztrát: nagy teljesítményű, kis teljesítményű integrált áramkörökhöz, például nagyfrekvenciás analóg és digitális áramkörökhöz, RF eszközökhöz és energiagazdálkodási chipekhez használják;
- Összetett félvezető hordozók: Gallium-arzenid szubsztrátum (GaAs): mikrohullámú és milliméteres hullámú kommunikációs eszközök stb. Gallium-nitrid szubsztrát (GaN): RF teljesítményerősítőkhöz, HEMT stb. használják. Szilícium-karbid szubsztrát (SiC): elektromos járművekhez, teljesítményátalakítókhoz és egyéb erőátviteli eszközökhöz használatos: Indium lézer phoss, phosid szubsztrát stb.;
- Zafír hordozó: LED-gyártáshoz, RFIC (rádiófrekvenciás integrált áramkör) stb.
A Vetek Semiconductor egy professzionális SiC szubsztrát és SOI szubsztrát szállító Kínában. A 4H félig szigetelő SiC hordozónkat és a 4H félszigetelő típusú SiC szubsztrátumunkat széles körben használják a félvezető gyártó berendezések kulcsfontosságú alkatrészeiben.
A Vetek Semiconductor elkötelezett amellett, hogy fejlett és testreszabható Wafer Substrate termékeket és különféle specifikációjú műszaki megoldásokat biztosítson a félvezetőipar számára. Őszintén várjuk , hogy az Ön beszállítója lehessünk Kínában .
Főbb jellemzők
- SiC hordozók (4H N-típusú és félszigetelő) és SOI hordozók professzionális szállítója teljesítmény-, rádiófrekvenciás és fejlett IC alkalmazásokhoz.
- Széles hordozóportfólió, amely magában foglalja a szilíciumot, az összetett félvezetőket (SiC, GaN, GaAs, InP), a zafírt és a speciális ostyákat (PZT, SiN, dummy wafers).
- Kiváló anyagminőség és folyamatkonzisztencia, amely alkalmas epitaxiális növekedésre, készülékgyártásra és berendezés folyamatvezérlésére.
- Testreszabható specifikációk és műszaki megoldások a különböző félvezetőgyártási követelményekhez szabva.
- Megbízható kínai bázisú ellátás az energiaellátó eszközök, MEMS, LED, RF és termikus technológiai eszközök alkalmazásmérnöki támogatásával.
Termékkategóriák
- SiC szubsztrátok: 4H N-típusú és félszigetelő SiC lapkák erősáramú eszközökhöz és rádiófrekvenciás alkalmazásokhoz
- SOI szubsztrátok: Szilícium-szigetelő lapkák nagy teljesítményű, kis teljesítményű IC-khez és RF eszközökhöz
- Speciális / technológiai lapkák: CVD SiC bevonatú állapkák, SiN szubsztrátok, PZT piezoelektromos lapkák Si/SOI-n
- Egyéb összetett / zafír szubsztrátok: LED, RF és optoelektronikai alkalmazások támogatása (az áttekintésben hivatkozott)
Alkalmazások
A félvezetőgyártás sokrétű igényeinek kielégítésére a VeTek célzott Wafer Substrate termékeket kínál. Az alábbi táblázat a főbb alkalmazási területek szerint osztályozza őket:
| Alkalmazási mező |
Tipikus termékek |
Alkalmazás leírása |
| Energiaellátó eszközök és elektromos járművek |
4H-SiC hordozók (N-típusú / félig szigetelő) |
Szilícium-karbid szubsztrátumok teljesítmény-átalakítókhoz, elektromos járművekhez és nagyfeszültségű tápegységekhez, amelyek magas hőmérsékletet és nagy hatékonyságot igényelnek. |
| RF / nagyfrekvenciás IC-k |
SOI szubsztrátok, GaN / GaAs rokon hordozók, félig szigetelő SiC |
Nagy teljesítményű, kis teljesítményű hordozók RF eszközökhöz, teljesítményerősítőkhöz, HEMT-ekhez és nagyfrekvenciás analóg/digitális áramkörökhöz. |
| MEMS és érzékelők |
PZT piezoelektromos ostyák (PZT Si/SOI-on), SiN hordozók |
Piezoelektromos és nagy szilárdságú hordozók MEMS jelátalakítókhoz, érzékelőkhöz, 5G-hez, orvosi és viselhető eszközökhöz, amelyek elektromechanikus átalakítást igényelnek. |
| Folyamatszabályozás és tesztelés |
CVD SiC bevonat Dummy ostya |
Dummy és tesztlapok berendezések minősítéséhez, folyamatfelügyelethez és szennyeződés-ellenőrzéshez a félvezető gyártósorokon. |
| LED / Optoelektronika |
Zafír hordozók, összetett félvezető hordozók (InP stb.) |
Aljzatok LED-gyártáshoz, lézerekhez, fotodetektorokhoz és RFIC alkalmazásokhoz, amelyek optikai és nagyfrekvenciás teljesítményt igényelnek. |
| Fejlett IC / Logika és memória |
Egykristályos szilícium lapkák, SOI szubsztrátok |
Általános és fejlett hordozók integrált áramkörök, mikroprocesszorok, memóriák és energiagazdálkodási chipek számára. |
Részletesebb folyamategyeztetési megoldásokért tekintse meg aSzilícium-karbid epitaxiaésSzilícium epitaxiakapcsolódó oldalak.
Mint professzionális ostyagyártó és -szállító Kínában, saját gyárunk van. Akár testreszabott szolgáltatásokra van szüksége régiója speciális igényeinek kielégítésére, akár fejlett és tartós Kínában gyártott ostyát szeretne vásárolni,hagyj nekünk üzenetet.
