Web menü

Termékkeresés

Nyelv

Termékek

Támogatási szolgáltatás

Support Service is VeTek’s one-stop technical service system for customers, covering material purification and characterization, precision machining, thermal field design and modification, professional cleaning of CVD SiC-coated graphite parts, and equipment solutions such as large-size silicon carbide crystal growth furnaces. This category addresses core customer pain points in material purity control, machining accuracy of complex parts, thermal field uniformity optimization, high maintenance costs of coated components, and process stability of SiC crystal growth.

Service Offerings

Service Area

Description

Material Purification & Mapping

Multi-step purification and comprehensive electrical / composition / purity / structure testing and analysis to ensure high-quality semiconductor materials.

Precision Machining

Micrometer-level precision machining of graphite, silicon carbide and other semiconductor products with high surface quality.

Thermal Field Design & Modification

Design and supply for Czochralski, casting, GaAs, ZnSe, sapphire, SiC systems; thermal simulation and optimization under high-temperature conditions.

CVD SiC Coated Parts Cleaning

Specialized cleaning for Aixtron/Veeco MOCVD susceptors and graphite parts (GaN/AlN/AlGaN epi). Zero coating thickness loss, zero metal residue.

Crystal Growth Equipment

Large-sized resistance heating SiC crystal growth furnaces supporting stable 6–12 inch crystal growth with precise process control.

 

Through these services, customers receive full-chain support from materials to equipment, significantly reducing process risk and operating costs.

View as  
 
Alumínium-nitrid (AlN) lapkák

Alumínium-nitrid (AlN) lapkák

A VeTek Semiconductor kiváló minőségű alumínium-nitrid (AlN) egykristály lapkákat és szubsztrátumokat szállít a következő generációs ultra-széles sávú félvezető eszközökhöz. Az ultraszéles, körülbelül 6,2 eV-os sávszélességgel, a kiemelkedő hővezető képességgel, a kivételes elektromos szigeteléssel, valamint a kiváló rács- és hőtágulási illeszkedéssel a GaN-nel az AlN lapkák ideálisak nagy teljesítményű RF-eszközökhöz, nagyfeszültségű teljesítményelektronikához és mély-ultraibolya (DUV) optoelektronikához.
Mutass többet >> Kérdés küldése >>
CVD SiC bevonat grafit alkatrészek tisztítása

CVD SiC bevonat grafit alkatrészek tisztítása

A VETEK Professional Cleaning Service for CVD SiC Coated Graphite Parts egy speciális műszaki szolgáltatás, amelyet az Aixtron / Veeco MOCVD berendezések szuszceptoraihoz és a GaN / AlN / AlGaN epitaxiális folyamatokban használt grafit alkatrészekhez terveztek. Szabadalmaztatott tisztítási eljárásunk alaposan kiküszöböli a felületi memóriahatást, helyreállítja a stabil gázáramlást a reaktorban, és szigorúan védi a 100 µm-es CVD SiC bevonatot abszolút nulla vastagságveszteséggel és nulla fémmaradvány nélkül.
Mutass többet >> Kérdés küldése >>
PZT piezoelektromos ostyák (PZT Si/SOI-n)

PZT piezoelektromos ostyák (PZT Si/SOI-n)

Ahogy az 5G-kommunikáció, a precíziós orvosi eszközök és az intelligens viselhető eszközök bővülésével növekszik a nagy érzékenységű és kis teljesítményű MEMS-átalakítók iránti kereslet, a PZT on Si/SOI lapkáink kritikus anyagmegoldást kínálnak. A fejlett vékonyréteg-leválasztási eljárások, például a szol-gél vagy a porlasztás segítségével kivételes konzisztenciát és kiváló piezoelektromos teljesítményt érünk el szilícium hordozókon. Ezek az ostyák az elektromechanikus energiaátalakítás alapvető magjaként szolgálnak.
Mutass többet >> Kérdés küldése >>
Nagy méretű ellenállásfűtéses SiC kristály növesztő kemence

Nagy méretű ellenállásfűtéses SiC kristály növesztő kemence

A szilícium-karbid kristálynövekedés a nagy teljesítményű félvezető eszközök gyártási folyamatának egyik alapvető folyamata. A kristálynövesztő berendezés stabilitása, pontossága és kompatibilitása közvetlenül meghatározza a szilícium-karbid tömbök minőségét és hozamát. A fizikai gőzszállítás (PVT) technológia jellemzői alapján a Veteksemi kifejlesztett egy ellenállásfűtő kemencét szilícium-karbid kristályok növesztésére, amely lehetővé teszi a 6 hüvelykes, 8 hüvelykes és 12 hüvelykes szilícium-karbid kristályok stabil növekedését, teljes kompatibilitást vezető, félig szigetelő anyagrendszerekkel és N-típusú anyagrendszerekkel. A hőmérséklet, a nyomás és a teljesítmény precíz szabályozása révén hatékonyan csökkenti a kristályhibákat, mint például az EPD (Etch Pit Density) és a BPD (alapsík diszlokáció), miközben alacsony energiafogyasztással és kompakt kialakítással rendelkezik, hogy megfeleljen az ipari nagyméretű gyártás magas követelményeinek.
Mutass többet >> Kérdés küldése >>
CMP polírozó szuszpenzió

CMP polírozó szuszpenzió

A CMP polírozó iszap (Chemical Mechanical Polishing Slurry) egy nagy teljesítményű anyag, amelyet a félvezetőgyártásban és a precíziós anyagfeldolgozásban használnak. Alapvető funkciója az anyag felületének finom simítása és polírozása a kémiai korrózió és a mechanikai csiszolás szinergikus hatása alatt, hogy megfeleljen a nanoszintű síkossági és felületminőségi követelményeknek. Várom további konzultációját.
Mutass többet >> Kérdés küldése >>
CVD SIC bevonó dummy ostya

CVD SIC bevonó dummy ostya

Mint vezető kínai SIC ostya -gyártók és beszállítók, a Vetek Semiconductor CVD SIC Coating Dummy ostya egy speciális eszköz a félvezető gyártásában, amelyet elsősorban a szilícium ostya tesztelése és az ostya tesztelése céljából használnak. További kérdéseit szívesen látjuk.
Mutass többet >> Kérdés küldése >>
Professzionális Támogatási szolgáltatás gyártóként és beszállítóként Kínában saját gyárunk van. Ha személyre szabott szolgáltatásokra van szüksége régiója speciális igényeihez, vagy fejlett és tartós Kínában gyártott Támogatási szolgáltatás terméket szeretne vásárolni, írjon nekünk.
Hírek Ajánlások
Mi az a Wafer CMP polírozó szuszpenzió?
Mi az a Wafer CMP polírozó szuszpenzió?Mutass többet >>
Az izotróp grafit ellenáll-e a szélsőséges hőnek a magas hőmérsékletű kemencékben
Az izotróp grafit ellenáll-e a szélsőséges hőnek a magas hőmérsékletű kemencékbenMutass többet >>
Szilícium -karbid -epitaxia anyag
Szilícium -karbid -epitaxia anyagMutass többet >>
Miért nélkülözhetetlenek a SiC bevonatú grafit szuszceptorok a félvezető epitaxiához?
Miért nélkülözhetetlenek a SiC bevonatú grafit szuszceptorok a félvezető epitaxiához?Mutass többet >>
CVD bevonatok a félvezető epitaxiában: Műszaki paraméterek, SiC/TaC kiválasztása és hibaellenőrzés
CVD bevonatok a félvezető epitaxiában: Műszaki paraméterek, SiC/TaC kiválasztása és hibaellenőrzésMutass többet >>
Hogyan javítja a TaC bevonat a grafit alkatrészek élettartamát? - VeTek félvezető
Hogyan javítja a TaC bevonat a grafit alkatrészek élettartamát? - VeTek félvezetőMutass többet >>
X
Cookie-kat használunk, hogy jobb böngészési élményt kínáljunk, elemezzük a webhely forgalmát és személyre szabjuk a tartalmat. Az oldal használatával Ön elfogadja a cookie-k használatát. Adatvédelmi szabályzat
ElutasítElfogadás