CVD SiC bevonat grafit alkatrészek tisztítása

1. Kihívások, amelyekkel szembesülhet

• Nehezen eltávolítható AlN réteg:A 1300°C-os hőtisztítás még mindig nem tudja hatékonyan maratni a maradék AlN réteget.

• Ismétlődő memóriaeffektus:A felszíni memóriahatás instabil gázáramlást okoz a reaktorban, ami befolyásolja a folyamat konzisztenciáját.

• Tisztítási ciklus Impacts áteresztőképesség:Jellemzően minden 16 folyamatciklus (4-5 szuszceptor) külső tisztítást igényel.

• A költséges bevonat károsodásával kapcsolatos aggodalom:A házon belüli vegyszeres tisztítási tapasztalat hiánya miatt a kezelők hezitálnak az agresszív tisztítással.

2. Megoldásunk – GaN / AlN / AlGaN folyamatokhoz tervezve

• Professzionális takarítás:Egyedi eljárás kifejezetten CVD SiC bevonatú grafit alkatrészekhez. Az ügyféltől nincs szükség kémiai képletre.

• Bevonatbiztonság:Szigorúan védi a 100 µm-es CVD SiC bevonatot. Teljesen nulla vastagságveszteség tisztítás után.

• Ellenőrizhető eredmények:Teljes elemzési tanúsítvány (COA), amely öt fő dimenzióra vonatkozik. Az adatok archiválásra és minőségellenőrzésre készen állnak.

3. Öt alapvető elfogadási feltétel

Szigorúan igazodik a félvezető epitaxia felhasználók kritikus követelményeihez:

1. Nulla bevonatveszteség– A SiC bevonat vastagsága soha nem csökken a tisztítás után (vastagság-összehasonlítás előtti/utáni ellenőrzés).

2. Nincs felületi deformáció– A síkságot és a geometriai pontosságot szigorúan ellenőrzik, hogy ne legyen fizikai deformáció.

3. Távolítsa el a memóriaeffektust– Az Al/Ga maradék XPS-analízise megerősíti a memóriaeffektus-források alapos eltávolítását.

4. Nulla fémmaradék– A Fe, Cu, Ni és más fémek ICP-MS tesztje nulla maradék fémszennyeződést igazol.

5. Nincsenek felesleges részecskék– QIII részecsketeszt és tisztaságellenőrzés megakadályozza a maradék részecskék által okozott gázáramlási instabilitást.

4. Szállítási ellenőrzési és hitelesítési jelentés

Minden tétel teljes ellenőrzési adatokkal kerül kiszállításra öt fő dimenzióra vonatkozóan:

5. Alkalmazható termékek és folyamatok háttere

Termékparaméterek

Szolgáltatási folyamat

1. Érdeklődés– Küldje el a részfotókat / modellt / mennyiséget értékelésre.

2. Idézet– Műszaki értékelés és részletes tisztítási javaslat árajánlattal.

3. Szállítás– Szállítson nekünk alkatrészeket, vagy gondoskodjon átvételi szolgáltatásról.

4. Tisztítás– Professzionális tisztítás + teljes többdimenziós ellenőrzés.

5. Jelentés– COA jelentést kiállítottak és a tisztított alkatrészeket visszaküldték.

6. Nyomon követés– Hatáskövetés és folyamatos technikai támogatás.

6. Miért válassza a VETEK Takarítószolgálatot?

A VETEK egyesíti a CVD SiC bevonattechnológiában szerzett mély szakértelmét a nagy értékű grafit szuszceptorok speciális tisztítási képességeivel. Megértjük a bevonat integritásának, a részecskeszabályozásnak és a folyamat tisztaságának kritikus fontosságát a GaN/AlN epitaxiában. Szolgáltatásunk olyan ügyfelek számára készült, akik abszolút biztonságot igényelnek a drága CVD SiC bevonatokhoz, miközben teljes mértékben megoldják a memóriaeffektus és a gázáramlás instabilitási problémáit.

· Próbatisztítás elérhető kis tételes ellenőrzéshez

· A teljes COA jelentés minden szállításhoz mellékelve

· Nulla a bevonat sérülésének vagy új szennyeződésének kockázata

· Professzionális · Biztonságos · Ellenőrizhető