Mi az a tantalum karbid (TAC)？

Tantalum Carbide (TAC)a tantalum (TA) és a szén (C) bináris vegyülete, a kémiai képlet általában tacₓ -ként fejezhető ki (ahol x 0,4 és 1 között van). Kiváló keménységgel, magas hőmérsékleti stabilitással és fém vezetőképességgel rendelkező tűzálló kerámia anyagnak minősítik.

1. Tantalum karbid szerkezete

1.1 Kémiai összetétel és kristályszerkezet

A tantalum karbid egy bináris kerámia vegyület, amely tantalumból (TA) és szénből (C) áll.

Kristályszerkezete arc-központú köbös (FCC), amely kiváló keménységet és stabilitást biztosít neki.

1.2 Kötési tulajdonságok

Az erős kovalens kötés rendkívül kemény és ellenállóvá teszi a tantalum karbidot.

A TAC rendkívül alacsony diffúziós együtthatóval rendelkezik, és még magas hőmérsékleten is stabil marad.

Tantalum karbid (TAC) bevonat mikroszkopikus keresztmetszeten

2. A tantalum karbid fizikai tulajdonságai

2.1 rendkívül magas olvadáspont

A 3880 ° C olvadási ponttal a Tantalum karbid egyik legmagasabb olvadási pontja az ismert anyagok közül, és kiváló stabilitást eredményez a szélsőséges hőmérsékleten.

2.2 Kiváló keménység

Körülbelül 9-10 MOHS keménységgel közel van a gyémánthoz, ezért széles körben használják kopásálló bevonatokban.

2.3 Jó Elektromos vezetőképesség

A legtöbb kerámia anyaggal ellentétben a TAC nagy fémszerű elektromos vezetőképességgel rendelkezik, ami értékessé teszi bizonyos elektronikus eszközökben történő alkalmazásokhoz.

2.4 Korrózió és oxidációs ellenállás

A TAC rendkívül rezisztens a savas korrózióval szemben, és hosszú ideig fenntartja annak szerkezeti integritását durva környezetben.

A TAC azonban 1500 ° C feletti levegőben oxidálódhat a tantalum pentoxid (TA₂O₅) -á. 

3.

3.1 Tantalum karbid bevont alkatrészek

● CVD tantalum karbid bevont érzékeny: Félvezető epitaxiában és magas hőmérsékleten történő feldolgozásban használják.

● Tantalum karbid bevont grafit alkatrészek: Magas hőmérsékletű kemencékben és ostyafeldolgozó kamrákban használják. Példa erre a tantalum karbid bevont porózus grafit, amely jelentősen javítja a folyamat hatékonyságát és a kristály minőségét azáltal, hogy optimalizálja a gázáramot a SIC kristály növekedése során, csökkenti a termikus stressz, javítja a termikus egységességet, fokozza a korrózióállóságot és gátolja a szennyeződés diffúzióját.

● Tantalum karbid bevont forgó lemez: A Vetekchechon TAC bevonatú forgó lemeze nagy tisztaságú összetételű, kevesebb, mint 5ppm szennyeződés tartalommal és sűrű és egységes felépítéssel, amelyet széles körben használnak az LPE EPI rendszerben, az AIXTRON rendszerben, a NUFLARE rendszerben, a Tel CVD rendszerben, a VEECO rendszerben, a TSI rendszerben. Rendszerek, TSI rendszerek.

● Tac bevont fűtés: A TAC bevonat rendkívül magas olvadáspontjának (~ 3880 ° C) kombinációja lehetővé teszi, hogy nagyon magas hőmérsékleten működjön, különösen a Gallium -nitrid (GaN) epitaxiális rétegek növekedésében a fém szerves kémiai gőzlerakódás (MOCVD) folyamatában.

● Tantalum karbid bevont tégely: A CVD TAC bevonattal ellátott keresztesítői gyakran kulcsszerepet játszanak a SIC egykristályok növekedésében a PVT -vel.

3.2 vágószerszámok és kopásálló alkatrészek

● Tantalum karbid bevonatú karbidvágó szerszámok: Javítsa a szerszám élettartamát és a megmunkálási pontosságot.

● Repülési fúvókák és hőpajzsok: Biztosítson védelmet a szélsőséges hő- és korrozív környezetben.

3.3 Tantalum Carbide nagyteljesítményű kerámia termékek

● űrhajó -termikus védelmi rendszerek (TPS): űrhajó és hiperszonikus járművek esetén.

● Nukleáris üzemanyag bevonatok: Védje a nukleáris üzemanyag -pelleteket a korróziótól.

4. Tantalum karbid alkalmazások félvezető gyártásban

4.1 Tantalum karbid bevonatú hordozók (Susceptor) az epitaxiális folyamatokhoz

Szerep: A grafithordozókra alkalmazott tantalum karbid bevonatok javítják a hőegység és a kémiai stabilitást a kémiai gőzlerakódás (CVD) és a fém-szerves kémiai gőzlerakódás (MOCVD) folyamatokban.

Előny: Csökkentő folyamatszennyezés és hosszabb hordozó élettartama.

4.2 Metch és lerakódási komponensek

Az ostyaátviteli gyűrűk és pajzsok: A tantalum karbid bevonat javítja a plazma maratás kamráinak tartósságát.

Előny: ellenáll az agresszív maratási környezeteknek és csökkenti a szennyeződés csapadékát.

4.3 Magas hőmérsékletű fűtési elemek

Alkalmazás a SIC CVD növekedésében: Tantalum karbid bevont fűtési elemek javítják a szilícium -karbid (SIC) ostya gyártási folyamatának stabilitását és hatékonyságát.

4.4 Védő bevonatok félvezető gyártóberendezésekhez

Miért van szüksége TAC bevonatra?  A félvezető gyártás szélsőséges hőmérsékleteket és korrozív gázokat foglal magában, és a tantalum karbid bevonatok hatékonyan javítják a berendezések stabilitását és élettartamát.

5. Miért válasszonVeteksemicon?

A Vetekchemon a vezető gyártója és szállítójaTantalum karbid bevonatAnyagok Kínában a félvezető ipar számára. Fő termékeink közé tartozik a CVD tantalum karbid bevont alkatrészek, a szinterelt TAC bevonatú alkatrészek a SIC kristálynövekedéshez vagy a félvezető epitaxia folyamatokhoz. A Vetekchemon elkötelezett amellett, hogy innovátor és vezető szerepet játszik a tantalum karbid bevonat -iparban a folyamatos K + F és a technológiai iteráció révén.