ALD olvasztott kvarc talapzat

A Vetek Semiconductor ALD ALD FUETE QUARTZ READAL kulcsszerepet játszik a félvezető gyártási folyamatában, mint akvarc csónak, amely aostya- A megolvasztott kvarc talapzat elősegíti az egységes filmlerakódás elérését egy stabil hőmérséklet fenntartásával, amely közvetlenül befolyásolja a félvezető eszközök teljesítményét és megbízhatóságát. Ezenkívül a kvarc talapzat biztosítja a hő és a fény egyenletes eloszlását a folyamatkamrában, ezáltal javítva a lerakódási folyamat általános minőségét.

ALD olvasztott kvarc talapzat anyagi előnyei

Magas hőmérsékleti ellenállás: Az olvasztott kvarc talapzat lágyulási pontja körülbelül 1730 ° C, és hosszú ideig ellenáll 1100 ° C és 1250 ° C közötti magas hőmérsékletű működésnek, és 1450 ° C-ig extrém hőmérsékleti környezetnek lehet kitéve. rövid ideig.

Kiváló korrózióállóság: Az olvasztott kvarc kémiailag erősen inert szinte minden savval szemben, kivéve a hidrogén-fluoridot. Savállósága 30-szor nagyobb, mint a kerámiáé és 150-szer nagyobb, mint a rozsdamentes acélé. Az olvasztott kvarc kémiailag páratlan magas hőmérsékleten, így ideális anyag összetett kémiai folyamatokhoz.

Hőstabilitás: A megolvasztott kvarc talapzat anyagának egyik legfontosabb jellemzője a rendkívül alacsony hőtágulási együttható. Ez azt jelenti, hogy repedés nélkül könnyen kezelheti a drámai hőmérsékleti ingadozásokat. Például a megolvasztott szilícium-dioxid-kvarc gyorsan 1100 ° C-ra melegíthető, és közvetlenül hideg vízbe meríthető sérülés nélkül, ami fontos jellemző a nagy stressz-gyártási körülmények között.

Szigorú gyártási folyamat: Az olvasztott szilícium-dioxid talapzatok gyártási folyamata szigorúan betartja a magas minőségi előírásokat. A gyártási folyamat melegalakítási és hegesztési eljárásokat alkalmaz, amelyeket általában 10 000 osztályú tisztatér környezetben végeznek. Ezt követően az olvasztott kvarcüveg talapzatot ultratiszta vízzel (18 MΩ) alaposan megtisztítják, hogy biztosítsák a termék tisztaságát és az optimális teljesítményt. Minden készterméket szigorúan ellenőriznek, tisztítanak és egy 1000-es vagy magasabb osztályú tisztatérben csomagolnak, hogy megfeleljenek a félvezetőipar magas követelményeinek.

Magas tisztaságú átlátszatlan szilícium -dioxid -kvarc anyag

A Veteksemi ALD olvasztott kvarc talapzat nagy tisztaságú átlátszatlan kvarc anyagot használ a hő és a fény hatékony izolálására. Kiváló hővédő és könnyű árnyékoló tulajdonságai lehetővé teszik a folyamatkamra egyenletes hőmérsékleti eloszlásának fenntartását, biztosítva a vékony egységességét és konzisztenciájátfilm lerakásaz ostya felületén.

Alkalmazási mezők

Az olvasztott kvarc talapzatokat kiváló teljesítményük miatt széles körben használják a félvezetőipar számos területén. Aatomi rétegfelvitel (ALD) folyamat, támogatja a film növekedésének pontos ellenőrzését és biztosítja a félvezető eszközök előrehaladását. Aalacsony nyomású kémiai gőzlerakódás (LPCVD) folyamat, A nagy tisztaságú kvarc talapzat hőstabilitása és fényvédő képessége garanciákat biztosít a vékony fóliák egyenletes lerakódásához, ezáltal javítva az eszközök teljesítményét és a hozamot.

Ezenkívül a diffúziós lapka eljárásban a Fused Quartz Talapzat magas hőmérsékletű és kémiai korrózióállósága biztosítja a félvezető anyagok adalékolási folyamatának megbízhatóságát és konzisztenciáját. Ezek a kulcsfontosságú folyamatok határozzák meg a félvezető eszközök elektromos teljesítményét, és a kiváló minőségű olvasztott kvarc anyagok nélkülözhetetlen szerepet játszanak ezen folyamatok legjobb eredményének elérésében.

VeTek Semiconductor ALD olvasztott kvarc talapzat üzletei: