Félvezető Quartz Bell Jar

VetekFélvezetőKvarc harang edényTöbb kulcsszerepet játszik a félvezető feldolgozásában. a harang jar vákuum rendszernemcsak stabil és ellenőrzött reakciókörnyezetet biztosít, hanem kiváló termikus stabilitása, kémiai tehetetlensége és optikai átlátszósága révén biztosítja a különböző folyamatok hatékonyságát és pontosságát is. Ezek a jellemzők azt is meghatározzákharang vákuumkamranélkülözhetetlen alkatrész a félvezető gyártási folyamatban.

VetekFélvezető kvarc Lezárt feldolgozási környezetet hoz létre, amely lehetővé teszi a feldolgozógázok egyenletes eloszlását, és ellenőrzött körülmények között reagál az ostya felületével. Ezért,Félvezető Kvarc harang edényáltalában olyan folyamatokban használják, mint a CVD, a diffúzió és az oxidáció, hogy pontosan szabályozzák a légkör összetételét és nyomását, ezáltal biztosítva a film egységességét és az anyag tisztaságát.

Ugyanakkor a kvarcanyagok kiváló termikus stabilitással, magas hőmérséklettel szembeni ellenállással rendelkeznek (a félvezető feldolgozás magas hőmérsékletű környezete általában eléri az 1000 °C-ot vagy annál magasabb), valamint a termék jellemzői, hogy a melegítés és hűtés során stabil alakot és méretet tartsanak fenn. Ez határozza meg, hogy aKvarc harang edényteljes mértékben biztosíthatja az ostya felületének hőmérsékletének egységességét a diffúzió és az oxidáció magas hőmérsékleti környezetében, ezáltal javítva a lerakódott vagy diffúz réteg minőségét és egységességét.

Ennél is fontosabb,VetekSemiconductor nagy tisztaságú kvarc Nem könnyű reagálni a feldolgozógázokkal magas hőmérsékletű környezetben, és erős korrózióállósággal rendelkezik. Ez a termékjellemző határozza meg, hogy a korrozív gázok (például néhány CVD -eljárás) folyamatában, a folyamatokban,Félvezető Kvarc harang edényképes teljes mértékben fenntartani a kémiai stabilitást, elkerülve ezzel a félvezető eszközök szennyeződését.

VeTek SemiconductorKvarc harang edény:

A félvezető chipek epitaxiás ipari láncának áttekintése: