Web menü

Termékkeresés

Nyelv

Termékek

Tantál-karbid bevonat

A VeTek semiconductor a tantál-karbid bevonóanyagok vezető gyártója a félvezetőipar számára. Fő termékkínálatunkban megtalálhatók a CVD-tantál-karbid bevonat alkatrészek, a szinterezett TaC bevonat alkatrészek SiC kristálynövekedéshez vagy félvezető epitaxiás folyamathoz. Az ISO9001 tanúsítvánnyal rendelkező VeTek Semiconductor jól szabályozza a minőséget. A VeTek Semiconductor elkötelezett amellett, hogy újítóvá váljon a tantál-karbid bevonat iparban az iteratív technológiák folyamatos kutatása és fejlesztése révén.


A fő termékek aTaC bevonatú vezetőgyűrű, CVD TaC bevonatú háromszirom vezetőgyűrű, Tantál-karbid TaC bevonatú Halfmoon, CVD TaC bevonatú planetáris SiC epitaxiális szuszceptor, Tantál-karbid bevonógyűrű, Tantál-karbid bevonatú porózus grafit, TaC bevonat rotációs szuszceptor, Tantál-karbid gyűrű, TaC bevonat forgólap, TaC bevonatú ostya szuszceptor, TaC bevonatú terelőgyűrű, CVD TaC bevonat fedél, TaC bevonatú tokmánystb., a tisztaság 5 ppm alatt van, megfelel az ügyfelek igényeinek.


A TaC bevonatú grafitot egy nagy tisztaságú grafit szubsztrátum felületének finom tantál-karbid réteggel való bevonásával állítják elő szabadalmaztatott vegyi gőzleválasztásos (CVD) eljárással. Az előny az alábbi képen látható:


Excellent properties of TaC coating graphite


A tantál-karbid (TaC) bevonat magas, akár 3880°C-ig terjedő olvadáspontja, kiváló mechanikai szilárdsága, keménysége és hősokkállósága miatt keltett figyelmet, így vonzó alternatívája a magasabb hőmérsékleti igényű összetett félvezető epitaxiás eljárásoknak. mint például az Aixtron MOCVD rendszer és az LPE SiC epitaxiás eljárás. Széles körben alkalmazható a PVT módszer SiC kristálynövekedési folyamatában is.


Főbb jellemzők:

 ●Hőmérséklet stabilitás

 ●Ultra magas tisztaságú

 ●Ellenállás H2, NH3, SiH4,Si

 ●Hőanyaggal szembeni ellenállás

 ●Erős tapadás a grafithoz

 ●Konform bevonat lefedettség

 ● Méret akár 750 mm átmérőig (az egyetlen gyártó Kínában eléri ezt a méretet)


Alkalmazások:

 ●Ostyahordozó

 ● Induktív fűtési szuszceptor

 ● Ellenállásos fűtőelem

 ●Műholdas lemez

 ●Zuhanyfej

 ●Vezetőgyűrű

 ●LED Epi vevő

 ●Befecskendező fúvóka

 ●Maszkoló gyűrű

 ● Hővédő pajzs


Tantál-karbid (TaC) bevonat mikroszkopikus keresztmetszeten:


the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating


A VeTek Semiconductor tantál-karbid bevonat paramétere:

A TaC bevonat fizikai tulajdonságai
Sűrűség 14,3 (g/cm³)
Fajlagos emissziós tényező 0.3
Hőtágulási együttható 6,3 10-6/K
Keménység (HK) 2000 HK
Ellenállás 1×10-5Ohm*cm
Hőstabilitás <2500 ℃
A grafit mérete megváltozik -10-20um
Bevonat vastagsága ≥20um tipikus érték (35um±10um)


TaC bevonat EDX adatok：

EDX data of TaC coating


TaC bevonat kristályszerkezeti adatok:

Elem Atom százalék
Pt. 1 Pt. 2 Pt. 3 Átlagos
C K 52.10 57.41 52.37 53.96
A M 47.90 42.59 47.63 46.04


View as  
 
Tantál-karbid bevonatú porózus grafit

Tantál-karbid bevonatú porózus grafit

A tantalum karbid bevont porózus grafit nélkülözhetetlen termék a félvezető feldolgozási folyamatban, különösen a SIC kristály növekedési folyamatában. A folyamatos K + F befektetési és technológiai frissítések után a Vetek Semiconductor TAC bevonatú porózus grafit termékminősége magas dicséretet kapott az európai és az amerikai ügyfelek számára. Üdvözöljük a további konzultációban.
Mutass többet >> Kérdés küldése >>
CVD TAC bevonó bolygó SIC epitaxiális érzékeny

CVD TAC bevonó bolygó SIC epitaxiális érzékeny

A CVD TaC bevonatú planetáris SiC epitaxiális szuszceptor a MOCVD planetáris reaktor egyik központi eleme. A CVD TaC bevonatú planetáris SiC epitaxiális szuszceptor révén a nagy korong kering és a kis korong forog, és a vízszintes áramlási modellt kiterjesztik a többchipes gépekre is, így rendelkezik mind a kiváló minőségű epitaxiális hullámhossz-egyenletesség-kezeléssel, mind a hibaoptimalizálással. -chip gépek és a többchipes gépek gyártási költségelőnyei. A VeTek Semiconductor magasan testreszabott CVD TaC-t tud nyújtani az ügyfeleknek bevonat planetáris SiC epitaxiális szuszceptor. Ha Ön is szeretne olyan bolygórendszerű MOCVD kemencét készíteni, mint az Aixtron, gyere el hozzánk!
Mutass többet >> Kérdés küldése >>
Tac bevont gyűrű

Tac bevont gyűrű

A Kínában a TAC bevonatú gyűrűs termékek vezető gyártójaként és szállítójaként a Vetek Semiconductor a K + F -re és a különféle TAC bevonat -termékek előállítására összpontosít. Mint a TAC bevonó termékek fő ügyfelei, az európai és az amerikai gyártók nagy dicséretet adtak a bevonási termékeinknek. Üdvözöljük a további konzultációban.
Mutass többet >> Kérdés küldése >>
GaN Epitaxy Undertaker

GaN Epitaxy Undertaker

A Vetek Semiconductor egy kínai cég, amely világszínvonalú gyártó és a Gan Epitaxy Susceptor szállítója. A félvezető iparban dolgozunk, például a szilícium -karbid bevonatok és a GaN Epitaxy Susceptor. Kiváló termékeket és kedvező árakat tudunk biztosítani Önnek. A Vetek Semiconductor várja, hogy hosszú távú partnerévé váljon.
Mutass többet >> Kérdés küldése >>
TAC bevonatú ostya -érzékeny

TAC bevonatú ostya -érzékeny

A Vetek félvezető TAC -bevonatú ostya -susceptor egy grafit tálca, amelyet Tantalum karbiddal borítottak a szilícium -karbid -epitaxiális növekedéshez az ostya minőségének és teljesítményének javítása érdekében. A Vetek -et fejlett bevonási technológiájának és tartós megoldásai miatt választják ki a kiváló SIC -epitaxia és a kibővített Susceptor Life biztosítása érdekében, üdvözölje további vizsgálatait.
Mutass többet >> Kérdés küldése >>
TAC bevonatvezető gyűrűk

TAC bevonatvezető gyűrűk

Mint a TAC bevonó útmutatógyűrűk Kínában vezető gyártója, a Vetek Semiconductor TAC bevonatú vezetékgyűrűk fontos alkotóelemei a MOCVD berendezésekben, biztosítva a pontos és stabil gázszállítást az epitaxiális növekedés során, és nélkülözhetetlen anyagok a félvezető epitaxiális növekedésében. Üdvözöljük, hogy konzultáljon velünk.
Mutass többet >> Kérdés küldése >>
Professzionális Tantál-karbid bevonat gyártóként és beszállítóként Kínában van saját gyárunk. Függetlenül attól, hogy testreszabott szolgáltatásokra van szüksége a régió konkrét igényeinek kielégítéséhez, vagy a Kínában gyártott fejlett és tartós Tantál-karbid bevonat -et szeretne vásárolni, üzenetet hagyhat nekünk.
Hírek Ajánlások
A SIC epitaxiális növekedési kemence különböző műszaki útvonalai
A SIC epitaxiális növekedési kemence különböző műszaki útvonalaiMutass többet >>
A Vetekchemon ragyog a 2025 -es Shanghai Semicon Nemzetközi Kiállításon
A Vetekchemon ragyog a 2025 -es Shanghai Semicon Nemzetközi KiállításonMutass többet >>
A szilícium -karbid kerámia alkalmazása és kutatása a fotovoltaika területén - Vetek félvezető
A szilícium -karbid kerámia alkalmazása és kutatása a fotovoltaika területén - Vetek félvezetőMutass többet >>
Mi az a szilícium -karbid kristálynövekedés?
Mi az a szilícium -karbid kristálynövekedés?Mutass többet >>
A chip gyártási folyamatának teljes magyarázata (1/2): A ostyától a csomagolásig és a tesztelésig
A chip gyártási folyamatának teljes magyarázata (1/2): A ostyától a csomagolásig és a tesztelésigMutass többet >>
A szilícium -epitaxia jellemzői
A szilícium -epitaxia jellemzőiMutass többet >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept