A Vetek Semiconductor sok éves technológiai fejlődést tapasztalt, és elsajátította a CVD TAC bevonat vezető folyamattechnológiáját. A CVD TAC bevont hárompetál vezetőgyűrű a Vetek Semiconductor egyik legérettebb CVD TAC bevonat-terméke, és fontos elem a SIC kristályok PVT módszerrel történő előállításához. A Vetek Semiconductor segítségével azt hiszem, hogy a SIC kristálytermelése simább és hatékonyabb lesz.
A szilícium -karbid egykristályos szubsztrát anyag egyfajta kristályanyag, amely a széles sávos félvezető anyaghoz tartozik. A nagy feszültség ellenállás, a magas hőmérséklet-ellenállás, a magas frekvenciájú, az alacsony veszteségek stb. Előnye. Ez alapvető anyag a nagy teljesítményű elektronikus elektronikus eszközök és a mikrohullámú rádiófrekvenciás eszközök előkészítéséhez. Jelenleg a SIC kristályok termesztésének fő módszerei a fizikai gőz transzport (PVT módszer), a magas hőmérsékletű kémiai gőzlerakódás (HTCVD módszer), a folyadékfázisú módszer stb.
A fizikai gőz szállítás (PVT) módszer egy jól bevált technika, amely rendkívül alkalmas nagy méretű ipari termelésre. Ebben a folyamatban egy SIC magkristályt a tégely tetején helyeznek el, míg a SIC por, amely nyersanyagként szolgál, a tégely aljára helyezkedik el. A magas hőmérsékleten és az alacsony nyomás mellett zárt környezetben a SIC por szublimálódik. A hőmérsékleti gradiens és a koncentrációs különbség alapján a szublimált fajok felfelé mozognak a vetőmagkristály közelében lévő régió felé. A túltelített állapot elérése után átkristályosítás történik, lehetővé téve a megnövekedett SIC kristályok méretének és specifikus kristálytípusának pontos ellenőrzését.
A CVD TAC bevont három - sziromvezető gyűrű több kritikus funkciót kínál. Elsősorban javítja a folyadékmechanikát azáltal, hogy irányítja a gázáramot, biztosítva, hogy a kristálynövekedési terület egységes légkörnek legyen kitéve. Ezenkívül hatékonyan eloszlatja a hőt a SIC kristály növekedési folyamat során. A megfelelő hőmérsékleti gradiens fenntartásával optimalizálja a SIC kristályok növekedési körülményeit, és enyhíti az egyenetlen hőmérsékleti eloszlás által okozott kristályhibák kockázatát.
A CVD TAC bevonat kiváló teljesítménye
● Rendkívül magas tisztaság: Kerüli a szennyeződések és a szennyeződés előállítását.
● Magas hőmérsékleti stabilitás: A 2500 ° C feletti magas hőmérsékleti stabilitás lehetővé teszi az ultra-magas hőmérsékletet.
● Kémiai környezeti tolerancia: A H (2), NH (3), SIH (4) és SI -vel szembeni tolerancia, védelmet nyújtva kemény kémiai környezetben.
● Hosszú élet eldobás nélkül: A grafit testhez való szoros kötés biztosítja a hosszú életciklusot a belső bevonat leeresztése nélkül.
● Termikus ütésállóság: A termikus ütésállóság felgyorsítja a működési ciklust.
●Szigorú dimenziós tolerancia: Biztosítja, hogy a bevonás lefedettsége megfelel a szigorú dimenziós tűrésekhez.
A Vetek Semiconductornak van egy profi és érett műszaki támogatási és értékesítési csapata, amely testreszabhatja a legmegfelelőbb termékeket és megoldásokat az Ön számára. Az eladásoktól az értékesítés utáni értékesítésig a Vetek Semiconductor mindig elkötelezett amellett, hogy a legteljesebb és legátfogóbb szolgáltatásokat nyújtsa Önnek.
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
Cookie-kat használunk, hogy jobb böngészési élményt kínáljunk, elemezzük a webhely forgalmát és személyre szabjuk a tartalmat. Az oldal használatával Ön elfogadja a cookie-k használatát. Adatvédelmi szabályzat