Web menü

Termékkeresés

Nyelv

Termékek
Tantál-karbid bevonatú félhold alkatrész LPE-hez
  • Tantál-karbid bevonatú félhold alkatrész LPE-hezTantál-karbid bevonatú félhold alkatrész LPE-hez
  • Tantál-karbid bevonatú félhold alkatrész LPE-hezTantál-karbid bevonatú félhold alkatrész LPE-hez
  • Tantál-karbid bevonatú félhold alkatrész LPE-hezTantál-karbid bevonatú félhold alkatrész LPE-hez

Tantál-karbid bevonatú félhold alkatrész LPE-hez

A VeTek Semiconductor a tantál-karbiddal bevont félholdas alkatrészek vezető szállítója Kínában az LPE-hez, sok éve a TaC bevonat technológiájára összpontosítva. Tantál-karbid bevonatú félhold alkatrészünket LPE-hez folyékony fázisú epitaxiás folyamathoz tervezték, és ellenáll a 2000 Celsius-fok feletti magas hőmérsékletnek. Kiváló anyagteljesítménynek és folyamatinnovációnak köszönhetően termékeink élettartama vezető szinten van az iparágban. A VeTek Semiconductor örömmel várja, hogy hosszú távú partnere legyen Kínában.
Kérdés küldése
termékleírás

Professzionális gyártóként a VeTek Semiconductor kiváló minőségű tantál-karbid bevonatú félhold alkatrészt szeretne kínálni az LPE-hez.

A VeTek Semiconductor egy professzionális vezető kínai SiC, TaC bevonat, szilárd szilícium-karbid gyártó kiváló minőséggel és elfogadható áron. Az LPE-hez készült tantál-karbid bevonatú félhold alkatrészünket a vízszintes és függőleges epitaxiás berendezések reakciókamrájában használják hordozó, hőmérséklet-szabályozás és hő szállítására. konzerválás, szellőzés, védelem és egyéb funkciók a SiC epitaxy réteg növekedésének vastagságának, adalékolásának, hibáinak és egyéb anyagjellemzőinek együttes szabályozása érdekében a reakciókamrában.

VeTek Semiconductor kapcsolódó termékek: felső félhold, alsó félhold, védőburkolat, szigetelőburkolat, folyamatlevegő-elterelő interfész. Cégünk elkötelezett amellett, hogy a reakciókamrás SiC bevonatú és TaC bevonatú alkatrészmegoldások teljes skáláját kínálja ügyfeleinek.


A tantál-karbid bevonatú félhold alkatrész termékparaméterei LPE-hez

A TaC bevonat fizikai tulajdonságai
Sűrűség 14,3 (g/cm³)
Fajlagos emissziós tényező 0.3
Hőtágulási együttható 6,3×10-6/K
Keménység (HK) 2000 HK
Ellenállás 1×10-5Ohm*cm
Hőstabilitás <2500 ℃
A grafit mérete megváltozik -10-20um
Bevonat vastagsága ≥20um tipikus érték (35um±10um)


VeTek Semiconductor Production Shop：

VeTek Semiconductor Production Shop


A félvezető chipek epitaxiás ipari láncának áttekintése:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


Hot Tags: Tantál-karbid bevonatú félhold alkatrész LPE-hez, Kína, Gyártó, Szállító, Gyári, Testreszabott, Vásárlás, Speciális, Tartós, Kínában gyártott
Kapcsolódó kategória
Kérdés küldése
Elérhetőségei
Ha kérdése van a szilícium-karbid bevonattal, a tantál-karbid bevonattal, a speciális grafittal vagy az árlistával kapcsolatban, kérjük, hagyja nekünk e-mail-címét, és 24 órán belül felvesszük Önnel a kapcsolatot.
Kapcsolódó termékek
Tantalum karbid bevonatú bolygó rotációs lemez
Tantalum karbid bevonatú bolygó rotációs lemez Mutass többet >>
TAC bevonatgyűrű a SIC epitaxiális reaktorhoz
TAC bevonatgyűrű a SIC epitaxiális reaktorhoz Mutass többet >>
TAC bevonattal bevont deflektor gyűrű
TAC bevonattal bevont deflektor gyűrű Mutass többet >>
Tantalum karbid bevonó burkolat
Tantalum karbid bevonó burkolat Mutass többet >>
Tantalum karbid bevont burkolat
Tantalum karbid bevont burkolat Mutass többet >>
Tantalum karbid bevonatú chuck
Tantalum karbid bevonatú chuck Mutass többet >>
Hírek Ajánlások
Tantalum karbid technológia áttörés, a SIC epitaxiális szennyezés 75%-kal csökkent?
Tantalum karbid technológia áttörés, a SIC epitaxiális szennyezés 75%-kal csökkent?Mutass többet >>
Porózus tantalum karbid: Anyagok új generációja a SIC kristálynövekedéshez
Porózus tantalum karbid: Anyagok új generációja a SIC kristálynövekedéshezMutass többet >>
ALD atomi réteges leválasztás receptje
ALD atomi réteges leválasztás receptjeMutass többet >>
Termálmező kialakítása a SIC egykristálynövekedéshez
Termálmező kialakítása a SIC egykristálynövekedéshezMutass többet >>
Diamond - a félvezetők jövőbeli csillaga
Diamond - a félvezetők jövőbeli csillagaMutass többet >>
Hogyan lehet megoldani a szilícium -karbid kerámia repedéseinek problémáját? - Vetek félvezető
Hogyan lehet megoldani a szilícium -karbid kerámia repedéseinek problémáját? - Vetek félvezetőMutass többet >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept