TAC bevonat talapzat támogató lemez

A Vetek Semiconductor a kínai gyártó és beszállító, aki elsősorban CVD TAC bevonat -érzelmeket, bemeneti gyűrűt, Wafer chunck -t, TAC bevonattal ellátott tartót, TAC bevonó talapzási támogató lemezt állít elő, sok éves tapasztalattal. Remélem, hogy üzleti kapcsolatot alakíthat ki veled.

A TAC -kerámia olvadási pontja legfeljebb 3880 ℃, nagy keménység (Mohs keménység 9 ~ 10), nagy hővezető képesség (22W · m^-1· K⁻¹), nagy hajlítási szilárdság (340 ~ 400mPa) és kis hőtágulási együttható (6,6 × 10⁻⁶K⁻¹), és kiváló termokémiai stabilitást és kiváló fizikai tulajdonságokat mutat. Jó kémiai és mechanikai kompatibilitással rendelkezik a grafit és a c/c kompozit anyagokkal, tehát a TAC bevonatot széles körben használják repülőgép -termikus védelemben, egykristálynövekedésben és epitaxiális reaktorokban, mint például az Aixtron, az LPE EPI reaktor a félvezető iparban. 

A TAC bevonatú grafit jobb kémiai korrózióállósággal rendelkezik, mint a csupasz kő tinta vagy a SIC bevonatú grafit, stabilan használható 2200 ° -os hőmérsékleten, nem reagál sok fém elemmel, a félvezető egyszemélyes kristálynövekedés harmadik generációja, az epitaxia és a ostya maratási jelenet a legjobb teljesítmény -bevonat, és jelentősen javíthatja a hőmérsékleti és a behatolási ellenőrzés előkészítését, a magas színvonalú ifinőségi istrs -offinomonos wafting jelenetet, és jelentősen javíthatja a hőmérsékleti és a behatolási ellenőrzés előkészítését. ostyák. Különösen alkalmas a GAN vagy az ALN egykristályok termesztésére MOCVD berendezésekben és SIC egykristályokban a PVT berendezésekben, és az egykori termesztett egy kristály minősége nyilvánvalóan javul.