Szilícium-karbid bevonat

A VTech Semiconductor elkötelezett a CVD SIC bevonatú alkatrészek fejlesztése és forgalmazása mellett az AIXTRON reaktorok számára. Például a SIC bevonat -borítószegmenseinket gondosan feldolgozták, hogy sűrű CVD SIC bevonatot készítsenek, kiváló korrózióállósággal, kémiai stabilitással, üdvözöljük az alkalmazás forgatókönyveinek megvitatására.

A MOCVD Susceptor -t bolygón és professziósnak jellemzik az Epitaxy stabil teljesítménye miatt. A Vetek Semiconductor gazdag tapasztalattal rendelkezik ennek a terméknek a megmunkálása és CVD SIC bevonatában, üdvözöljük, hogy kommunikáljon velünk a valós esetekről.

Az előmelegítő gyűrűt a félvezető epitaxia folyamatában használják az ostyák előmelegítésére és az ostyák hőmérsékletének stabilabbá és egységesebbé tételére, ami nagy jelentőséggel bír az epitaxisrétegek magas színvonalú növekedése szempontjából. A Vetek Semiconductor szigorúan ellenőrzi ennek a terméknek a tisztaságát, hogy megakadályozza a szennyeződések illékonyságát magas hőmérsékleten.

A VeTek Semiconductor a vezető EPI Wafer Lift Pin gyártó és innovátor Kínában. Sok éve foglalkozunk grafit felületének SiC bevonattal. EPI Wafer Lift Pin-t kínálunk az Epi folyamathoz. Kiváló minőségű és versenyképes áron, üdvözöljük, hogy látogassa meg gyárunkat Kínában.

Az Epitaxy egy olyan technika, amelyet a félvezető eszközök gyártásában használnak új kristályok növesztésére egy meglévő chipen, hogy új félvezető réteget készítsenek. A VeTek Semiconductor alkatrészmegoldások átfogó készletét kínálja az LPE szilícium epitaxiás reakciókamrákhoz, hosszú élettartamot, stabil minőséget és jobb epitaxiát biztosítva. réteghozam. Termékünk, mint például a SiC Coated Barrel Susceptor pozíció visszajelzést kapott az ügyfelektől. Technikai támogatást is biztosítunk a Si Epi, SiC Epi, MOCVD, UV-LED Epitaxy és még sok más számára. Árakról érdeklődjön bátran.

A Kína legfontosabb gyár-vetek félvezető egyesíti a precíziós megmunkálást, valamint a félvezető SIC és a TAC bevonat képességeit. A hordó típusú SI EPI -susceptor biztosítja a hőmérsékletet és a légköri kontroll képességeket, javítva a termelési hatékonyságot a félvezető epitaxiális növekedési folyamatokban. Előre vonja az együttműködési kapcsolat létrehozását az Önnel.