Sic zuhanyfej

A Vetek Semiconductor fejlett SIC zuhanyfejet biztosít a félvezető ipar számára. A szilícium-karbid anyagok a kiváló termikus, elektromos és kémiai tulajdonságok egyedi kombinációjával rendelkeznek, így ideálisak a félvezető iparban alkalmazott alkalmazásokhoz, ahol nagy teljesítményű anyagokra van szükség. A Vetek Semiconductor már régóta felhalmozódott a CVD szilárd SIC technológiájában. A Vetek Semiconductor forradalmian új technológiája lehetővé teszi a SIC zuhanyfej előállítását, amely egy rendkívül magas tisztaságú szilícium-karbid anyag, amelyet a kémiai gőzlerakódás folyamata során hoztak létre.

A SIC zuhanyfej kritikus elem a félvezető gyártásban, amelyet kifejezetten a MOCVD rendszerekhez terveztek, a szilícium -epitaxy ésSicepitaxia folyamatok- Robusztusból készültSzilárd szilícium -karbid (sic), Ez az alkatrész ellenáll a plazma feldolgozásának és a magas hőmérsékletű alkalmazásoknak a szélsőséges körülményeit.

Szilícium -karbid (sic)nagy hővezető képességéről, kémiai korrózióállóságáról és kivételes mechanikai szilárdságáról ismert, így ideális anyag az ömlesztett alkatrészekhez, mint például a SIC zuhanyfej. A gázzuhany fej biztosítja a feldolgozási gázok egyenletes eloszlását az ostya felületén, ami elengedhetetlen a kiváló minőségű epitaxiális rétegek előállításához. A fókuszgyűrűk és a CVD-SIC-ből készült élgyűrűk fenntartják az egységes plazma eloszlását, és megvédik a kamrát a szennyeződéstől, javítva az epitaxiális növekedés hatékonyságát és hozamát.

A pontos gázáramlással és a kiemelkedő anyagtulajdonságokkal a SIC zuhanyfej kulcsfontosságú elem a modern félvezető feldolgozásban, támogatva a fejlett alkalmazásokat a szilícium -epitaxiában és a SIC epitaxiában.

A Vetek Semiconductor alacsony ellenállású szinterelt szilícium -karbid félvezető zuhanyfejet kínál. Képesek vagyunk az egyéni mérnökökre és ellátásrafejlett kerámia anyagokkülönféle egyedi képességek felhasználása.