Szilícium-karbid bevonat

A VeTek Semiconductor ultratiszta szilícium-karbid bevonat termékek gyártására specializálódott, ezeket a bevonatokat tisztított grafitra, kerámiára és tűzálló fém alkatrészekre tervezték.

Nagy tisztaságú bevonataink elsősorban a félvezető- és elektronikai iparban való használatra készültek. Védőrétegként szolgálnak az ostyahordozók, szuszceptorok és fűtőelemek számára, megóvva őket a korrozív és reaktív környezetektől, amelyek olyan folyamatokban fordulnak elő, mint a MOCVD és az EPI. Ezek a folyamatok az ostyafeldolgozás és az eszközgyártás szerves részét képezik. Ezenkívül bevonataink jól alkalmazhatók vákuumkemencékben és mintamelegítésben, ahol nagy vákuum, reaktív és oxigén környezettel találkozhatunk.

A VeTek Semiconductornál átfogó megoldást kínálunk fejlett gépműhelyi képességeinkkel. Ez lehetővé teszi számunkra, hogy az alapelemeket grafitból, kerámiából vagy tűzálló fémekből állítsuk elő, és házon belül vigyük fel a SiC vagy TaC kerámiabevonatokat. Az ügyfelek által szállított alkatrészekhez bevonási szolgáltatásokat is nyújtunk, biztosítva a rugalmasságot a különféle igények kielégítésére.

Szilícium-karbid bevonat termékeinket széles körben használják Si-epitaxiában, SiC-epitaxiában, MOCVD-rendszerben, RTP/RTA-folyamatban, maratási folyamatban, ICP/PSS-maratási folyamatban, különféle LED-típusok folyamatában, beleértve a kék és zöld LED-eket, az UV LED-eket és a mély-UV-t. LED stb., amely az LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI és így tovább berendezésekhez van igazítva.

A reaktor alkatrészei, amelyeket elkészíthetünk:

A szilícium-karbid bevonatnak számos egyedi előnye van:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

VeTek félvezető szilícium-karbid bevonat paramétere

A CVD SiC bevonat alapvető fizikai tulajdonságai
Ingatlan	Tipikus érték
Kristályszerkezet	FCC β fázisú polikristályos, főleg (111) orientált
SiC bevonat Sűrűség	3,21 g/cm³
SiC bevonat Keménység	2500 Vickers keménység (500 g terhelés)
szemcseméret	2~10μm
Kémiai tisztaság	99,99995%
Hőkapacitás	640 J·kg^-1·K^-1
Szublimációs hőmérséklet	2700 ℃
Hajlító szilárdság	415 MPa RT 4 pontos
Young's Modulus	430 Gpa 4pt kanyar, 1300 ℃
Hővezetőképesség	300W·m^-1·K^-1
Hőtágulás (CTE)	4,5×10-6K^-1

CVD SIC FILM KRISTÁLYSZERKEZET

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE

Szilícium-karbid bevonatú Epi szuszceptor SiC bevonatú ostyahordozó SiC bevonatú műholdfedél MOCVD-hez CVD SiC bevonatú ostya Epi szuszceptor CVD SiC bevonatú fűtőelem Aixtron Satellite ostyahordozó SiC Coating Epi vevő SiC bevonat félhold grafit alkatrészek

View as

SIC bevonatú MOCVD Susceptor

A Vetekchemon SIC bevonatú MOCVD Susceptor kiváló folyamat, tartósság és megbízhatóságú eszköz. Ellenállnak a magas hőmérsékleten és a kémiai környezetnek, fenntarthatják a stabil teljesítményt és a hosszú élettartamot, ezáltal csökkentve a csere és a karbantartás gyakoriságát, valamint a termelés hatékonyságának javítását. A MOCVD epitaxiális érzelme a nagy sűrűségű, kiváló laposságról és kiváló hőszabályozásról híres, így ez a preferált berendezések a kemény gyártási környezetben. Alig várom, hogy együttműködhessek veled.

Mutass többet >> Kérdés küldése >>

SIC bevonatú ICP maratási hordozó

A Vetekchechon SIC bevonatú ICP maratási hordozót a legigényesebb epitaxis berendezések alkalmazására tervezték. Kiváló minőségű, ultra-tiszta grafit anyagból készült, a SIC bevonatú ICP maratási hordozónk nagyon sík felületű és kiváló korrózióállósággal rendelkezik, hogy ellenálljon a durva körülményeknek a kezelés során. A SIC bevonatú hordozó nagy hővezetőképessége biztosítja az egyenletes hőtelosztást a kiváló maratási eredményekhez.

Mutass többet >> Kérdés küldése >>

PSS marató hordozó lemez félvezetőhöz

A Vetek Semiconductor PSS marató hordozó lemeze félvezető számára egy kiváló minőségű, ultra-tiszta grafithordozó, amelyet ostyakezelési folyamatokra terveztek. Hordozóink kiváló teljesítményűek, és jól teljesítenek durva környezetben, magas hőmérsékleten és kemény kémiai tisztítási körülmények között. Termékeinket széles körben használják számos európai és amerikai piacon, és várjuk, hogy hosszú távú partnerévé váljunk Kínában. Üdvözöljük Kínába, hogy meglátogassa a gyárunkat, és többet megtudjon technológiánkról és termékeinkről.

Mutass többet >> Kérdés küldése >>

Gyors termikus lágyító érzelem

A Vetek Semiconductor egy vezető gyors hőkezelő-szuszpenzió-gyártó és szállító Kínában, amelynek célja a nagy teljesítményű megoldások biztosítása a félvezető ipar számára. Sok éves mély műszaki felhalmozódásunk van a SIC bevonó anyagok területén. A gyors hőkezelő susceptor kiváló hőmérsékleti ellenállással és kiváló hővezető képességgel rendelkezik, hogy megfeleljen a ostya -epitaxiális gyártás igényeinek. Üdvözöljük, hogy meglátogassa a kínai gyárunkat, hogy többet megtudjon technológiánkról és termékeinkről.

Mutass többet >> Kérdés küldése >>

Szilícium-alapú GaN Epitaxial Susceptor

A szilícium-alapú GaN epitaxiális susceptor a GaN epitaxiális termeléshez szükséges alapkomponens. A Vetekchemon szilícium-alapú GaN Epitaxial Susceptor kifejezetten a szilícium-alapú GaN epitaxiális reaktorrendszerhez tervezték, olyan előnyökkel, mint a nagy tisztaság, a kiváló magas hőmérséklet-ellenállás és a korrózióállóság. Üdvözöljük további konzultációját.

Mutass többet >> Kérdés küldése >>

8 hüvelykes félmoon rész az LPE reaktorhoz

A VeTek Semiconductor Kína vezető félvezető berendezések gyártója, amely a 8 hüvelykes Halfmoon Part for LPE Reactor kutatás-fejlesztésére és gyártására összpontosít. Az évek során gazdag tapasztalattal rendelkezünk, különösen a SiC bevonatanyagok terén, és elkötelezettek vagyunk amellett, hogy hatékony megoldásokat kínáljunk az LPE epitaxiális reaktorokhoz. A 8 hüvelykes Halfmoon Part for LPE Reactor kiváló teljesítménnyel és kompatibilitással rendelkezik, és az epitaxiális gyártás nélkülözhetetlen kulcseleme. Üdvözöljük kérdését, ha többet szeretne megtudni termékeinkről.

Mutass többet >> Kérdés küldése >>

Professzionális Szilícium-karbid bevonat gyártóként és beszállítóként Kínában van saját gyárunk. Függetlenül attól, hogy testreszabott szolgáltatásokra van szüksége a régió konkrét igényeinek kielégítéséhez, vagy a Kínában gyártott fejlett és tartós Szilícium-karbid bevonat -et szeretne vásárolni, üzenetet hagyhat nekünk.

QR-kód

Rólunk

Termékek

Lépjen kapcsolatba velünk

Telefon
+86-18069220752
Fax
+86-579-87223657
Email
anny@veteksemi.com
Cím
Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi megye, Jinhua City, Zhejiang tartomány, Kína

Web menü

Termékkeresés

Nyelv

Kilépés a menüből

Szilícium-karbid bevonat

A reaktor alkatrészei, amelyeket elkészíthetünk:

A szilícium-karbid bevonatnak számos egyedi előnye van:

VeTek félvezető szilícium-karbid bevonat paramétere

CVD SIC FILM KRISTÁLYSZERKEZET

SIC bevonatú MOCVD Susceptor

SIC bevonatú ICP maratási hordozó

PSS marató hordozó lemez félvezetőhöz

Gyors termikus lágyító érzelem

Szilícium-alapú GaN Epitaxial Susceptor

8 hüvelykes félmoon rész az LPE reaktorhoz

Kérdés küldése

QR-kód

Rólunk

Termékek

Lépjen kapcsolatba velünk

Telefon

Fax

Email

Cím