A Vetek Semiconductor egy vezető félvezető berendezés gyártója Kínában, valamint a szilárd SIC-alakú zuhanyfej professzionális gyártója és szállítója. A lemez alakú zuhanyfejünket széles körben használják a vékony fóliatelepítés előállításában, például a CVD -eljárásban, hogy biztosítsák a reakciógáz egyenletes eloszlását, és ez a CVD kemence egyik alapvető alkotóeleme.
A szilárd SIC korong alakú zuhanyfej szerepe a CVD-folyamatban az, hogy a reakciógáz egyenletes eloszlatása a lerakódási terület fölött, hogy a gáz egyenletesen elterjedhessen a reaktorban, hogy lapos és egységes filmet kapjon.
A szilárd SIC zuhanyfej a CVD kemence tetejére vagy a gázbemeneti nyílás közelében van beállítva. A reakciógáz a tárcsa alakú szerkezetbe lép be a zuhanyfejre elosztott lyukakon, és a zuhanyfej felülete mentén diffundál. A többcsatornás kialakítás és az egyenletesen elosztott aljzatok révén a reakciógáz egyenletesen áramolhat a teljes reaktor területére, elkerülve a koncentrációt vagy a turbulenciát, és biztosítva a szubsztráton lerakódott réteg vastagságának konzisztenciáját.
Ugyanakkor a félvezető tárcsa alakú zuhanyfej szerkezetének diffúziós hatása is van, amely hatékonyan csökkentheti a gáz áramlási sebességét, így a fúvóka kimenetén egyenletesen eloszlatható, és csökkentheti a helyi gázáramlások lerakódási hatásra gyakorolt hatását. Segít elkerülni a szubsztrátra gyakorolt közvetlen gáz hatását, és megakadályozza az egyenetlen lerakódás problémáját.
Az anyagok szempontjából a szilárd SIC gázzuhany feje magas hőmérsékletű, korrózióálló és nagy szilárd SIC anyagból készül, nagyon nagy stabilitással. Hosszú ideig stabilan működhet a CVD kemencében, és hosszú élettartamú.
A Vetek Semiconductor kiváló minőségű, testreszabott szolgáltatásokat nyújt. A szilárd SIC lemez alakú zuhanyfej alakja és lyuk elrendezése rugalmasan beállítható az ügyfél folyamatainak követelményei szerint, hogy alkalmazkodjanak a különböző gáztípusokhoz, áramlási sebességhez és lerakódási anyagokhoz. Különböző méretű reaktorok vagy szubsztrátméretek esetén a különböző átmérőjű és lyuk-eloszlású tárcsa alakú zuhanyfejek testreszabhatók a gázeloszlás-hatás optimalizálása érdekében.
A Vetek Semiconductor érett folyamatokkal és fejlett technológiákkal rendelkezik a szilárd SIC félvezető zuhanyfejű termékekhez, segítve számos ügyfelet a CVD folyamatok folyamatos előrehaladásában. A Vetek Semiconductor várja, hogy Kínában hosszú távú partnerévé váljon.
A szilárd SIC fizikai tulajdonságai
A szilárd SIC fizikai tulajdonságai
Sűrűség
3.21
G/cm3
Villamosenergia -ellenállás
102
Ω/cm
Hajlító szilárdság
590
MPA
(6000 kgf/cm2)
Young modulusa
450
GPA
(6000 kgf/cm2)
Vickers keménység
26
PA
(2650 kgf/mm2)
C.T.E. (RT-1000 ℃)
4.0
X10-6/K
Hővezető képesség (RT)
250
W/mk
VeTek SemiconductorSzilárd SIC lemez alakú zuhanyfejű gyártóüzletek
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
Cookie-kat használunk, hogy jobb böngészési élményt kínáljunk, elemezzük a webhely forgalmát és személyre szabjuk a tartalmat. Az oldal használatával Ön elfogadja a cookie-k használatát. Adatvédelmi szabályzat