A VeTek Semiconductor egy professzionális kínai gyártó és szállító, elsősorban SiC bevonatú tartógyűrűket, CVD szilícium-karbid (SiC) bevonatokat, tantál-karbid (TaC) bevonatokat gyárt. Elkötelezettek vagyunk amellett, hogy tökéletes műszaki támogatást és végső termékmegoldásokat biztosítsunk a félvezetőipar számára, kérjük, vegye fel velünk a kapcsolatot.
VeTek Semiconductor, Kínában székhellyel rendelkező vezető gyártó és szállító számos termék előállítására szakosodottSiC bevonatú tartógyűrűk, CVD szilícium-karbid bevonatok, tantál-karbid bevonatok, ömlesztett SiC, SiC porok és nagy tisztaságú SiC anyagok. Elkötelezettségünk abban rejlik, hogy átfogó műszaki segítséget és optimális termékmegoldásokat kínáljunk a félvezető szektorra szabva. Bővebb információért és segítségért forduljon hozzánk bizalommal.
VeTek Semiconductor'sSiC bevonatú tartógyűrűka magas hőmérsékletnek ellenálló anyagok új generációja. Korrózióálló bevonatokként, oxidációálló bevonatokként és kopásálló bevonatokként 1650 ℃ feletti környezetben használhatók, és széles körben használják a félvezető területeken.
A kiváló minőségű jellemzőiSiC bevonatú tartógyűrűkNagyon fontos szerepet játszanak a harmadik generációs félvezető komponensek epitaxiális növekedésében.
A hőmérséklet egyenletességének megőrzése: A SiC bevonatú tartógyűrűk kiváló hővezető képességgel rendelkeznek, és egyenletes hőmérséklet-eloszlást biztosítanak az epitaxiális növekedés során. Ez segít csökkenteni az ostya felületén a termikus gradienseket és feszültségeket, ezáltal javítva az epitaxiális réteg minőségét.
Extrém kémiai stabilitás: Az epitaxiális növekedési folyamat során,SiC bevonatú tartógyűrűkképesek ellenállni a reakciógázok kémiai támadásának, meghosszabbítva a tartógyűrűk élettartamát és fenntartva a folyamat integritását. Ez a kémiai stabilitás csökkenti a szennyeződés kockázatát, és javítja a félvezető eszközök tisztaságát és teljesítményét.
Precíz pozicionálás: A SIC bevont tartógyűrűk képesek fenntartani az ostya pontos elhelyezését, ami kritikus jelentőségű az egységes réteg lerakódásának elérése szempontjából. Ez a pontos pozicionálás elősegíti az epitaxiális réteg vastagságának és minőségének konzisztenciáját.
A CVD SiC bevonat alapvető fizikai tulajdonságai:
VeTek Semiconductor Production Shop:
A félvezető chip -epitaxia ipari láncának áttekintése:
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
Cookie-kat használunk, hogy jobb böngészési élményt kínáljunk, elemezzük a webhely forgalmát és személyre szabjuk a tartalmat. Az oldal használatával Ön elfogadja a cookie-k használatát. Adatvédelmi szabályzat