Termékek
SIC bevonatú MOCVD Susceptor
  • SIC bevonatú MOCVD SusceptorSIC bevonatú MOCVD Susceptor
  • SIC bevonatú MOCVD SusceptorSIC bevonatú MOCVD Susceptor

SIC bevonatú MOCVD Susceptor

A Vetek Semiconductor SIC bevonatú MOCVD Susceptor egy kiváló folyamat, tartósság és megbízhatóságú eszköz. Ellenállnak a magas hőmérsékleten és a kémiai környezetnek, fenntarthatják a stabil teljesítményt és a hosszú élettartamot, ezáltal csökkentve a csere és a karbantartás gyakoriságát, valamint a termelés hatékonyságának javítását. A MOCVD epitaxiális érzelme a nagy sűrűségű, kiváló laposságról és kiváló hőszabályozásról híres, így ez a preferált berendezések a kemény gyártási környezetben. Alig várom, hogy együttműködhessek veled.

Keressen egy hatalmas választékot a SIC bevonattalMOCVD támogatásKínából a Vetek Semiconductornál. Biztosítson professzionális értékesítés utáni szolgáltatást és a megfelelő árat, várva az együttműködést.

VeTek Semiconductor'sMOCVD epitaxiális érzőkúgy tervezték, hogy ellenálljanak a magas hőmérsékleti környezetnek és a ostya előállításának gyakori durva kémiai körülményeinek. A precíziós tervezés révén ezeket az alkatrészeket úgy alakítják ki, hogy megfeleljenek az epitaxiális reaktorrendszerek szigorú követelményeinek. MOCVD-epitaxiális érzelmeink kiváló minőségű grafit szubsztrátokból készülnekSzilícium -karbid (sic), amely nemcsak kiváló hőmérsékleten és korrózióállósággal rendelkezik, hanem biztosítja az egységes hőeloszlásot is, ami kritikus jelentőségű a következetes epitaxiális film lerakódásának fenntartása szempontjából.

Ezen túlmenően a félvezető -érzékenyek kiváló hőteljesítményűek, ami lehetővé teszi a gyors és egységes hőmérséklet -szabályozást a félvezető növekedési folyamat optimalizálásához. Képesek ellenállni a magas hőmérséklet, az oxidáció és a korrózió támadásának, biztosítva a megbízható működést még a legnagyobb kihívást jelentő működési környezetben.

Ezenkívül a SIC bevonatú MOCVD-susceptorokat az egységességre összpontosítva tervezték, ami kritikus jelentőségű a kiváló minőségű egykristályos szubsztrátok elérése szempontjából. A síkság elérése elengedhetetlen ahhoz, hogy az ostya felületén kiváló egykristálynövekedést érjünk el.

A Vetek Semiconductornál az ipari szabványok túllépése iránti szenvedélyünk ugyanolyan fontos, mint a partnereink költséghatékonyságának elkötelezettsége. Arra törekszünk, hogy olyan termékeket biztosítsunk, mint például a MOCVD epitaxiális érzékenység, hogy megfeleljenek a félvezető gyártás folyamatosan változó igényeinek, és előrejelezzük annak fejlesztési trendeit, hogy biztosítsák, hogy működése a legfejlettebb eszközökkel felszerelt legyen. Bízunk benne, hogy hosszú távú partnerséget építhetünk veled, és minőségi megoldásokat kínálhatunk Önnek.


SIC bevonatú MOCVD támogatás:


A CVD SIC bevonat alapvető fizikai tulajdonságai
Ingatlan Tipikus érték
Kristályszerkezet FCC β fázisú polikristályos, főleg (111) orientált
Sűrűség 3,21 g/cm³
Keménység 2500 VICKERS keménység (500G terhelés bel
Szemcseméret 2 ~ 10 mm
Kémiai tisztaság 99,99995%
Hőkapacitás 640 J · kg-1· K-1
Szublimációs hőmérséklet 2700 ℃
Hajlító szilárdság 415 MPA RT 4-Pont
Young modulusa 430 GPA 4pt Bend, 1300 ℃
Hővezető képesség 300w · m-1· K-1
Hőtágulás (CTE) 4,5 × 10-6K-1


CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE

A CVD SIC filmkristályszerkezet SEM -adatai

Vetek félvezető SIC bevonatú MOCVD Susceptor Produkciós üzlet:

SiC Coated MOCVD Susceptor Production Shop

A félvezető chip -epitaxia ipari láncának áttekintése:

semiconductor chip epitaxy industry chain


Hot Tags: SIC bevonatú MOCVD Susceptor
Kérdés küldése
Elérhetőségei
Ha kérdése van a szilícium-karbid bevonattal, a tantál-karbid bevonattal, a speciális grafittal vagy az árlistával kapcsolatban, kérjük, hagyja nekünk e-mail-címét, és 24 órán belül felvesszük Önnel a kapcsolatot.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept