Félvezető minőségű Quartz Bell Jar

A Semiconductor Grade Quartz Bell Jar nagy tisztaságú kvarc anyagból készül. Kiváló hőstabilitással és erős korrózióállósággal rendelkezik, és számos területen használják. A félvezetőiparban: A Semiconductor Grade Quartz Bell Jar ellenőrzött környezetet biztosít a vékonyréteg-lerakáshoz szeleteken a kémiai gőzleválasztás (CVD) során. A Semiconductor Grade Quartz Bell Jar-t olyan eljárásokban is használják, amelyek vákuumtechnológiát igényelnek, mint például optikai bevonatok, fémbevonatok és más típusú vékonyréteg-anyagok gyártása. A félvezető minőségű Quartz Bell Jar-re számos fizikai és anyagtudományi kísérletben is szükség van, amelyek nagy tisztaságú, vákuumzáras környezetet igényelnek.

Félvezető ipari felhasználási forgatókönyvek:

A poliszilícium sok apró szemcsékből álló szilícium anyag, amelyet széles körben használnak integrált áramkörökben, napelemekben és más területeken. A kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD) a polikristályos szilícium előállításának egyik fő módszere. Az alapelv az, hogy a szilíciumforrás gáz, mint például a SiH4, magas hőmérsékleten lebomlik, és az aljzatra kerül, így polikristályos szilícium keletkezik:

SIHCL3 + H2 ⇒ SI + 3HCL

Magas hőmérsékleten és vákuum körülmények között a szilíciumforrásgázt a kémiai gőzlerakódásba tápláltuk. Végül megkapják a polikristályos szilíciumot.

Polikristályos szilícium CVD reaktor

A CVD magas hőmérsékleti reakciója alatt a félvezető minőségű kvarccsengő edény egyenletes termikus környezetet biztosíthat. A magas tisztaságú kvarc anyag magas hőmérsékleti ellenállása (képesek ellenállni a hőmérsékleteknek kb. 1100 ° C -ig) lehetővé teszi, hogy stabilan működjön a CVD -reakciókban, és biztosítsa az egységes hőmérsékleti eloszlást a reakció területén. A CVD -eljárás során számos mérgező gázkomponens létezik, mint például a PH3 stb. A félvezető minőségű kvarccsengő edény hatékonyan elkülönítheti a kémiai gázokat a reakciókamrában a külső környezetből, hogy elkerülje a káros gázszivárgást. A magas tisztaságú kvarc anyag korrózióállósága lehetővé teszi más anyagok számára is, hogy hosszú ideig stabilan működjenek a CVD -folyamat során, és nem könnyen korrodálódnak vagy megsérültek.

A kvarc harang edényt a kvarc hőmegőrző csővel és a függőleges kvarccsónakkal együtt használják, és leginkább a félvezető integrált áramkör -előállítás epitaxiális folyamatában használják. Az epitaxiális kemence általában függőleges szerkezetet alkalmaz, a kvarc harang edényt a függőleges kvarc hajó külső oldalán és a kvarc hőmegőrző csőjeként tartójaként.

A félvezető minőségű kvarc harang edény másik tipikus alkalmazása magas hőmérsékletű környezetben: A ortodontikus alkatrészek tételét 704 -re melegítsük 1 másodpercen belül egy inert légkörben ： ：

A Vetek Semiconductornak érett műszaki csapata van. Nem számít, milyen formában vagy nagy tisztaságú kvarc harangos üvegből áll, testreszabhatjuk az Ön számára.

VeTek Semiconductor termékek üzletei: