Grafit forgó tartó

Az ostya -susceptor kötelező az epitaxiális növekedési folyamathoz. Az epitaxiális növekedés során az ostya szubsztrátot a susceptorba helyezik. A gallium -nitrid (MOCVD folyamat) epitaxiális növekedésében támogató szerepet játszanak a szubsztrát forgásában. A Vetek Semiconductor forgó grafit -susceptorjának a következő előnyei vannak:

● Magas tisztaság: A magas tisztaságú grafit-forgó érzékenyek szennyezősági tartalma 5ppm alatt van. A tisztasági grafit ilyen szintje elkerülheti a szennyeződések felszabadulását magas hőmérsékleten, hogy biztosítsa a lerakódási folyamat tisztaságát. Ezért a munkakövetelmények teljesítéséhez nincs szükség bevonatra.

Nagy tisztaságú grafit

● Kiváló hőtulajdonságok: A nagy tisztaságú grafit kiváló hővezető képességgel rendelkezik, és hővezető képessége sokkal magasabb, mint más anyagok. A termikus tágulási együttható kicsi, és a hőmérsékleti változások esetén stabil teljesítményt tud fenntartani.

● Jó mechanikai tulajdonságok: A nagy tisztaságú grafit jó kopásállósággal és szilárdsággal rendelkezik, amelyek megfelelnek a CVD-folyamat komplex követelményeinek.

● Kiváló vezetőképesség: A vezetőképesség százszor magasabb, mint az általános nemfémes ásványoké.

● kémiai stabilitás: Ellenáll a savak, lúgok és szerves oldószerek korróziójának

Sőt, mint a Kínában a nagy tisztaságú grafit-forgó érzékenység vezető gyártója és szállítója, a Vetek Semiconductor is magas színvonalú szolgáltatást nyújtSIC bevonattal ellátott grafit -érzékeny a MOCVD -hez, SIC bevonattal ellátott hordószövetelő, TAC bevonatú grafit támogatásésMOCVD SIC bevonat -érzékeny.A Vetek Semiconductor elkötelezett amellett, hogy fejlett technológiát és termékmegoldásokat biztosítson a félvezető ipar számára, és támogatja a testreszabott szolgáltatásokat is. Őszintén várjuk, hogy Kínában hosszú távú partnerévé váljon.

VeTek SemiconductorGrafit forgó Susceptor termékboltok: