SiC epitaxiás folyamat

A VeTek Semiconductor TaC bevonatvezető gyűrűjét úgy hozták létre, hogy tantál-karbid bevonatot visznek fel a grafit alkatrészekre a kémiai gőzleválasztásnak (CVD) nevezett rendkívül fejlett technikával. Ez a módszer jól bevált, és kivételes bevonási tulajdonságokat kínál. A TaC Coating Guide Ring használatával a grafit alkatrészek élettartama jelentősen meghosszabbítható, a grafitszennyeződések mozgása elnyomható, a SiC és AIN egykristály minősége pedig megbízhatóan fenntartható. Üdvözöljük, hogy érdeklődjön tőlünk.

A Tantalum Carbide gyűrűs termékek fejlett gyártójaként és gyártóként Kínában a Vetek Semiconductor Tantalum karbidgyűrű rendkívül nagy keménységgel, kopásállósággal, magas hőmérsékletű ellenállással és kémiai stabilitással rendelkezik, és széles körben használják a félvezető gyártási területén. Különösen a CVD, a PVD, az ionimplantációs folyamat, a maratási folyamat, valamint az ostya feldolgozása és szállításában nélkülözhetetlen termék a félvezető feldolgozáshoz és gyártáshoz. Várom a további konzultációt.

Professzionális tantalum -karbid -bevonat -támogató termékgyártóként és gyáraként Kínában a Vetek Semiconductor tantalum karbid bevonási támogatását általában használják a szerkezeti alkatrészek vagy a támogató alkatrészek felületi bevonására a félvezető berendezésekben, különös tekintettel a kulcsfontosságú berendezések felületének védelmére a félvezető gyártási folyamatokhoz, például a CVD -ben. Üdvözöljük további konzultációját.

A Vetek Semiconductor a kínai Tantalum Carbide Guide Ring Products profi gyártója és vezetője. Tantalum karbid (TAC) vezetőgyűrűnk egy nagyteljesítményű gyűrűs alkatrész, amely tantalum karbidból készül, amelyet általában félvezető feldolgozó berendezésekben használnak, különösen magas hőmérsékleten és erősen korrozív környezetben, például CVD, PVD, maratás és diffúzió. A Vetek Semiconductor elkötelezett amellett, hogy fejlett technológiát és termékmegoldásokat biztosítson a félvezető ipar számára, és üdvözli további kérdéseit.

Professzionális gyártóként, újítóként és a TAC Coating Rotation Susceptor termékek vezetőjeként Kínában. A vetek félvezető TAC bevonási forgási susceptor -t általában kémiai gőzlerakódásba (CVD) és a molekuláris gerenda -epitaxis (MBE) berendezésekbe kell felszerelni, hogy támogassák és forgatják az ostyákat, hogy biztosítsák az egységes anyag lerakódását és a hatékony reakciót. Ez egy kulcsfontosságú elem a félvezető feldolgozásában. Üdvözöljük további konzultációját.

A Vetek Semiconductor a Kínában a CVD TAC Coating Crucible Products professzionális gyártója és vezetője. A CVD TAC bevonat -tégely a tantalum szén (TAC) bevonására épül. A tantalum szénbevonat egyenletesen lefedi a tégely felületét kémiai gőzlerakódás (CVD) eljárás révén, hogy javítsa a hőállóságot és a korrózióállóságot. Ez egy anyagi eszköz, amelyet kifejezetten magas hőmérsékletű szélsőséges környezetben használnak. Üdvözöljük további konzultációját.