Termékek

Magas tisztaságú kvarc hajónk olvasztott kvarcból készül (Sio₂ tartalom ≥ 99,99%). Kiválóan ellenállása a szélsőséges környezetnek, az alacsony hőtágulási együtthatónak és a hosszú életciklusnak, pótolhatatlan kulcsfogyaszthatóvá vált a félvezető és az új energiaiparban.

A maratás fókuszgyűrűje a kulcselem a folyamat pontosságának és stabilitásának biztosítása érdekében. Ezeket az alkatrészeket pontosan egy vákuumkamrában szereljük össze, hogy elérjék a nanoméretű szerkezetek egyenletes megmunkálását az ostya felületén a plazma eloszlásának, a szélhőmérséklet és az elektromos mező egységességének pontos szabályozásával.

A Vetekchemon Single Wafer Epi grafitszövetségét nagy teljesítményű szilícium-karbid (SIC), gallium-nitrid (GAN) és más harmadik generációs félvezető epitaxiális folyamathoz tervezték, és a nagy pontosságú epitaxiális lap alapvető csapágy alkotóeleme a tömegtermelésben.

A Vetekchechon egy vezető vákuum -Chuck -gyártó Kínában, a kerámia vákuum -chuckunk magas végű vákuum -adszorpciós eszközként szolgál, amely a pontos adszorpció és immobilizáló ostyák és rúdok pontos adszorpciója felé irányul. Üdvözöljük a kérdését.

A Vetek Semiconductor nagy tisztaságú grafitpapírja, egy prémium termék, amelyet úgy terveztek, hogy megfeleljen a szigorú tisztasági és teljesítményszabványoknak. Kivételes, akár 99,9%-os tisztaságú grafitpapírunk megbízható választási lehetőség a különféle alkalmazásokhoz, például akkumulátorrendszerekhez, üzemanyagcellákhoz, hőkezelési megoldásokhoz, félvezető hőmezőkhöz és azon túl. Ez a szabadalmaztatott gyártási eljárással készült grafitpapír egyenletességet és konzisztenciát garantál, páratlan elektromos vezetőképességet és hőstabilitást biztosítva. Bízzon a Vetek Semiconductor nagy tisztaságú grafitpapírjában a megbízhatóság és a kiválóság érdekében speciális projektjei során.

A Vetek Semiconductor nagy tisztaságú grafitport kínál, amely kiváló minőségű, akár 5 ppm tisztaságú termék, amely megfelel a legmagasabb ipari szabványoknak. Testreszabható részecskeforma, elsősorban szilícium-karbid por és gyémánt szintézishez használatos, alkalmas félvezető-, elektronikai és high-tech iparban. Üdvözöljük érdeklődni tőlünk!