Termékek

Az üveges szén-dioxid-termékek vezető kínai gyártójaként a Vetekchemon üveges szén -darabot széles körben használják a félvezető gyártási területen, kiváló ultra-magas tisztaságuk, nulla porozitás, perhatelés és kiváló kémiai korrózióállóság miatt, és magas dicséretet nyertek az európai és az amerikai ügyfelektől. Üdvözöljük a kérdésében.

A Szilícium -karbid bevonó termékek vezető kínai gyártójaként és szállítójaként a Vetekchechon SIC bevonatú ostyahordozója pótolhatatlan alapvető szerepet játszik a maratási folyamatban, kiváló hőmérsékleti stabilitással, kiemelkedő korrózióállósággal és magas hővezető képességgel.

A Vetekchemon CVD SIC bevonatú ostya-érzékenysége egy élvonalbeli megoldás a félvezető epitaxiális folyamatokhoz, amelyek rendkívül magas tisztaságot (≤100pp, ICP-E10 tanúsítvánnyal) és kivételes termikus/kémiai stabilitást kínálnak a GAN, SIC és szilikon alapú Epi-Layers szennyeződés-ellenálló növekedéséhez. A precíziós CVD technológiával fejlesztve támogatja a 6 ”/8”/12 ”-es ostyákat, biztosítja a minimális termikus feszültséget, és ellenáll a szélsőséges hőmérsékleteknek 1600 ° C -ig.

A SIC bevonatú bolygószövetségünk a félvezető gyártás magas hőmérsékleti folyamatának alapvető alkotóeleme. Tervei ötvözik a grafit szubsztrátot a szilícium -karbid bevonattal, hogy elérjék a termálkezelési teljesítmény, a kémiai stabilitás és a mechanikai szilárdság átfogó optimalizálását.

A porózus SIC kerámia tányérok porózus kerámia anyagok, szilícium -karbidból készültek, mint a fő alkotóelem, és speciális folyamatokkal dolgoznak fel. Ezek nélkülözhetetlen anyagok a félvezető gyártásban, a kémiai gőzlerakódásban (CVD) és más folyamatokban.

A SIC bevonatú, az epitaxishoz tartozó tömítőgyűrűnk nagy teljesítményű tömítő komponens, amely grafit vagy szén-szén kompozitokon alapul, nagy tisztaságú szilícium-karbiddal (sIC) bevonva kémiai gőzlerakódással (CVD), amely ötvözi a grafit hőstabilitását a grafit stabilitásával és a SIC szélsőséges környezeti ellenállásához)