Mennyit tudsz a CVD SIC -ről? - Vetek félvezető

CVDSIC(A kémiai gőzlerakódás szilícium-karbid) egy nagy tisztaságú szilícium-karbid anyag, amelyet kémiai gőzlerakódás útján gyártanak. Elsősorban különféle alkatrészekhez és bevonatokhoz használják félvezető feldolgozó berendezésekben. CVDSic anyagKiváló hőstabilitással, nagy keménységgel, alacsony hőtágulási együtthatóval és kiváló kémiai korrózióállósággal rendelkezik, így ideális anyagot jelent a szélsőséges folyamat körülmények között.

A CVD SIC anyagot széles körben használják olyan alkatrészekben, amelyek magas hőmérsékleten, erősen korrozív környezetet és magas mechanikai feszültséget tartalmaznak a félvezető gyártási folyamatában.

CVDSICAlkatrészekElsősorban a következő termékeket tartalmazza

● CVDSIC bevonat

Védőrétegként használják félvezető -feldolgozó berendezésekhez, hogy megakadályozzák a szubsztrátot a magas hőmérséklet, a kémiai korrózió és a mechanikus kopás károsodását.

● SIC ostyacsónak

Az ostyák hordozására és szállítására használják a magas hőmérsékletű folyamatokban (például diffúzió és epitaxiális növekedés) az ostyák stabilitásának és a folyamatok egységességének biztosítása érdekében.

● SIC folyamatcső

A SIC folyamatcsöveket elsősorban diffúziós kemencékben és oxidációs kemencékben használják, hogy ellenőrzött reakciókörnyezetet biztosítsanak a szilícium ostyák számára, biztosítva a pontos anyaglerakódást és az egyenletes dopping eloszlást.

● SIC konzolos lapát

A SIC konzolos lapátot elsősorban a szilícium ostyák diffúziós kemencékben és oxidációs kemencékben történő hordozására vagy támogatására használják, és csapágy szerepet játszanak. Különösen a magas hőmérsékletű folyamatokban, mint például a diffúzió, az oxidáció, az izzítás stb., Ez biztosítja a szilícium ostyák stabilitását és egységes kezelését szélsőséges környezetben.

● CVDSIC zuhanyfej

A plazma maratási berendezésekben gázelosztó alkatrészként használják, kiváló korrózióállósággal és hőstabilitással, az egyenletes gázeloszlás és a maratási hatás biztosítása érdekében.

● SIC bevonatú mennyezet

A berendezés reakciókamrájának alkatrészei, amelyek a berendezések magas hőmérsékleten és maró gázok általi sérüléseitől való védelemhez és a berendezések élettartamának meghosszabbításához használják.

● Szilícium -epitaxis érzők

A szilícium -epitaxiális növekedési folyamatokban használt ostyahordozók az ostya egyenletes fűtési és lerakódási minőségének biztosítása érdekében.

A kémiai gőzzel lerakódott szilícium -karbid (CVD SIC) széles körben alkalmazható a félvezető feldolgozásban, elsősorban olyan eszközök és alkatrészek gyártására, amelyek ellenállnak a magas hőmérsékleteknek, a korróziónak és a magas keménységnek. 

CVDSICAz alapvető szerep a következő szempontokban tükröződik

✔ Védő bevonatok magas hőmérsékletű környezetben

Funkció: A CVD SIC -t gyakran használják a félvezető berendezések kulcsfontosságú alkatrészeinek felszíni bevonatain (például sumeptorok, reakciókamra bélések stb.). Ezeknek az alkatrészeknek magas hőmérsékletű környezetben kell működniük, és a CVD SIC bevonatok kiváló hőstabilitást biztosíthatnak a szubsztrát védelme érdekében a magas hőmérsékletű károsodás ellen.

Előnyök: A CVD SIC magas olvadáspontja és kiváló hővezető képessége biztosítja, hogy az alkatrészek hosszú ideig stabilan működhessenek magas hőmérsékleten, meghosszabbítva a berendezés élettartamát.

✔ Korrózióellenes alkalmazások

Funkció: A félvezető gyártási folyamat során a CVD SIC bevonat hatékonyan ellenáll a korrozív gázok és vegyi anyagok eróziójának, és megvédi a berendezések és eszközök integritását. Ez különösen fontos az erősen korrozív gázok, például a fluoridok és a kloridok kezelésében.

Előnyök: A CVD SIC bevonat letétbe helyezésével az alkatrész felületére a korrózió által okozott berendezések károsodása és karbantartási költségei jelentősen csökkenthetők, és a termelési hatékonyság javítható.

✔ Nagy szilárdságú és kopásálló alkalmazások

Funkció: A CVD SIC anyag nagy keménységéről és nagy mechanikai szilárdságáról ismert. Széles körben használják olyan félvezető alkatrészekben, amelyek kopásállóságot és nagy pontosságot igényelnek, például mechanikus tömítéseket, terhelésű alkatrészeket stb. Ezeket az alkatrészeket erőteljes mechanikai feszültségnek és súrlódásnak vetik alá a működés közben. A CVD SIC hatékonyan ellen képes ellenállni ezeknek a feszültségeknek, és biztosítja az eszköz hosszú élettartamát és stabil teljesítményét.

Előnyök: A CVD SIC-ből készült alkatrészek nemcsak a szélsőséges környezetben képesek ellenállni a mechanikai feszültségnek, hanem a hosszú távú használat után is megőrizhetik azok méret stabilitását és felületét.

Ugyanakkor a CVD SIC létfontosságú szerepet játszikLED epitaxiális növekedés, Power félvezetők és egyéb mezők. A félvezető gyártási folyamatában a CVD SIC szubsztrátokat általában használjákEPI Susceptors- Kiváló hővezető képességük és kémiai stabilitásuk miatt a termesztett epitaxiális rétegek magasabbak és konzisztenciájúak. Ezen felül a CVD SIC -t is széles körben használjákPSS marató fuvarozók, RTP ostyahordozók, ICP marató fuvarozókstb., Stabil és megbízható támogatást nyújt a félvezető maratás során az eszköz teljesítményének biztosítása érdekében.

A Vetek Semiconductor Technology Co., Ltd a félvezető ipar számára fejlett bevonó anyagok vezető szolgáltatója. Cégünk az iparág számára az élvonalbeli megoldások fejlesztésére összpontosít.

Fő termékkínálatunk közé tartozik a CVD szilícium-karbid (sIC) bevonatok, a tantalum karbid (TAC) bevonatok, az ömlesztett SIC, a SIC porok és a nagy tisztaságú SIC anyagok, a SIC bevonatú grafit-érzékenység, az előmelegítés, a TAC bevonatú elterelő gyűrű, a HalfMoon, a vágási alkatrészek stb.

A Vetek Semiconductor az élvonalbeli technológia és a termékfejlesztési megoldások fejlesztésére összpontosít a félvezető ipar számára.Őszintén reméljük, hogy Kínában hosszú távú partnerré válunk.