Aixtron MOCVD támogató

A Susceptors által előállítottVetek Semiconductorgrafit szubsztrátból és szilícium-karbid (SiC) bevonóanyagból készülnek. A SiC anyag nagyobb kopásállósága, korrózióállósága és rendkívül nagy keménysége miatt különösen alkalmas kemény folyamatkörnyezetben történő használatra. Ezért a Vetek Semiconductor által gyártott szuszceptorok további felületkezelés nélkül közvetlenül felhasználhatók magas hőmérsékletű MOCVD eljárásokban.

A Susceptors kulcsfontosságú elemei a félvezető gyártásában, különösen a vékony film lerakódási folyamatok MOCVD berendezéseiben. A fő szerepeAixtron SiC vevőA MOCVD eljárásban félvezető lapkák szállítása, a vékonyrétegek egyenletes és jó minőségű lerakódásának biztosítása az egyenletes hőeloszlás és reakciókörnyezet biztosításával, ezáltal kiváló minőségű vékonyréteg-gyártás érhető el.

Aixtron MOCVD receptoráltalában a félvezető lapkák alapjának alátámasztására és rögzítésére szolgál, hogy biztosítsa a lapka stabilitását a leválasztási folyamat során. Ugyanakkor az Aixtron MOCVD Susceptor felületi bevonata szilícium-karbidból (SiC) készül, amely egy nagy hővezető anyag. A SiC bevonat egyenletes hőmérsékletet biztosít az ostya felületén, az egyenletes melegítés pedig elengedhetetlen a jó minőségű filmek előállításához.

Sőt, aAixtron MOCVD receptorAz általunk gyártott termékek nagyobb szerepet játszanak a reaktív gázok áramlásának és eloszlásának szabályozásában az anyagok optimalizált kialakítása révén. Kerülje az örvényáramot és a hőmérsékleti gradienseket az egyenletes filmlerakódás elérése érdekében.

Ennél is fontosabb, hogy a MOCVD eljárásban a szilícium-karbid (SiC) bevonóanyag korrózióálló, ígyVetek Semiconductor'sAixtron MOCVD receptorellenáll a magas hőmérsékletnek és a korrozív gázoknak is.

Alapvető fizikai tulajdonságaiSIC BEVONAT:

Vetek félvezető ostyacsónakboltok:

A félvezető chipek epitaxiás ipari láncának áttekintése: