Vákuum

Alkalmazás: 

Nagy hatékonyságú vákuumcsukk, amely a ostyák és rúdok pontos adszorpciójára és szilárd rögzítésére készült. Ez jó - olyan helyzetekhez, amelyek beleértve a félvezető gyártását, az ostyavágást, a precíziós feldolgozást, a magas hőmérsékleti epitaxiát, a maratást és az ionimplantációt.

Alapvető paraméterek:

● Állítható porozitás (10 - 200 μm).
● Képes ellenállni az ultra -magas hőmérsékleteknek (legfeljebb ≤1600 ° C -ig), és kiváló hőhatás -ellenállást mutat.
● Adszorpciós vákuum: A standard - 90 kPa (testreszabható a 100 kPa elérésére).

● Szívó csésze mérete: Támogathatja a 4/6/8/12 - hüvelykes ostyákat, és a rúd mérete egyedi igényeknek megfelelően testreszabható.

Ⅰ. Leírás

A Vetekchemon kerámia vákuuma porózus kerámia és egy fém külső gyűrű kombinált szerkezetét használja. A légcsatornák és pórusok személyre szabott kialakításán keresztül felismeri az adszorpciós erő és a nagy stabilitás egyenletes eloszlását. Ez a Chuck illeszkedik a félvezető gyártáshoz, ostyavágáshoz, precíziós feldolgozáshoz stb.

Ⅱ. Alapszerkezet és anyagi előnyök

Többrétegű kompozit elrendezés:

✔ felszíni réteg: Porózus kerámia (választhat a porózus szilícium -karbid vagy a porózus grafit között). A pórusátmérő beállítható (10 - 200 μm), ami garantálja, hogy az adszorpciós erő egyenletesen átkerül a ostya felületére, ezáltal megakadályozva a helyi stressz felépítését.

✔ Mátrix: Nagyon merev fémkeretből (akár rozsdamentes acélból, akár alumínium ötvözetből) áll, amely szerkezeti támaszt és léghajót kínál.

✔ légutak és pórusok: A pontosan megmunkált belső légutak hálózatot alkotnak, az egyenletesen elhelyezett mikropórusokkal együtt. Ez a beállítás támogatja a gyors vákuumkivonást (az adszorpciós erő elérhet - 90 kPa) és azonnali felszabadulást.

Ⅲ - Az MA összehasonlításateriális tulajdonságok

1. Az anyagtulajdonságok összehasonlítása

2. Alkalmazási forgatókönyvek és esetek

✔ Félvezető szövet

Epitaxiális növekedés: magas hőmérsékleten szilárdan adszorbeálhatja a SIC ostyákat, megakadályozva az ostyák elszakadását és szennyeződését.

Litográfia és maratás: Ez lehetővé teszi a pontos elhelyezkedést a nagysebességű mozgó platformokon (gyorsulás ≤10 g), biztosítva a grafikus igazítás pontosságát.

✔ Rúdfeldolgozás

Vágás és őrlés: Adszorbeálhatja a nehéz rúdokat (például a zafír és a szilícium - karbid rúd), csökkentve az él repedését a rezgés miatt.

✔ Tudományos kutatás és speciális technológiák

Magas - Hőmérséklet -lágyítás: Porózus szilícium - A karbid szívócsészék folyamatosan működhetnek 1600 ° C -on deformáció vagy szellőztetés nélkül.

Vákuumbevonat: Magas levegővel - feszültség kialakításával alkalmazkodik a PVD/CVD üreg környezetéhez.

3. Testreszabott szolgáltatás

✔ Kínálunk testreszabást a mérethez és a terheléshez.

✔ A sztómák és a légutak optimalizálhatók a konkrét követelmények teljesítésére.

✔ Adaptálható a speciális környezetekhez.

Ⅳ. GYIK:

Hogyan érhetik el a vákuumcsukkok több méretű ostya kompatibilitását (például 12/8/6 ")?

K: Hogyan illeszkedik egy chuck egy 12 hüvelykes, 8 hüvelykes és 6 hüvelykes ostyába? Szükség van -e a fizikai szerkezetátalakításra?

A:Többdimenziós kompatibilitás az adaptív légutak és a sztómális particionálás révén:

✔ Dinamikus sztómavezérlés: A balek felületén lévő sztómát egy gyűrűs területen osztják el, és a légkört különböző területeken egy külső szelep vezérli.

Például, amikor egy 8 hüvelykes ostya elnyel, akkor csak a központi terület pórusai engedélyezve vannak, és a külső pórusok bezáródnak (az adszorpciós erő szivárgásának elkerülése érdekében).

✔ Rugalmas légúti tervezés: A porthálózat moduláris elrendezéssel rendelkezik, amely megfelel a különböző méretű ostyák élprofiljainak, hogy biztosítsa az egységes adszorpciós erő lefedettségét. és Az előnyök a következők:

Nulla hardver csere: A szívócsészét nem kell eltávolítani vagy cserélni, a szoftver vagy a gázszelep kapcsolóján keresztül, különféle méretűekhez igazítható.

Költségmegtakarítás: Csökkentse a berendezések felújítási költségeit és leállási idejét, és növelje a gyártási vonal rugalmasságát.