Termékek

ALD folyamat, az atomréteg -epitaxia folyamatát jelenti. A Vetek Semiconductor és az ALD rendszergyártók olyan SIC bevonatú ALD bolygó -érzékenyeket fejlesztettek ki és gyártottak, amelyek megfelelnek az ALD folyamatának magas követelményeinek, hogy egyenletesen elosztják a légáramot a szubsztráton. Ugyanakkor a magas tisztaságú CVD SIC bevonatunk tisztaságot biztosít a folyamatban. Üdvözöljük, hogy megbeszéljük velünk az együttműködést.

A Vetek Semiconductor TAC bevonatú grafitszövetelője kémiai gőzlerakódási (CVD) módszert alkalmaz a tantalum karbid bevonat előállítására a grafit alkatrészek felületén. Ez a folyamat a legérettebb és a legjobb bevonat tulajdonságai. A TAC bevonatú grafit -susceptor meghosszabbíthatja a grafitkomponensek élettartamát, gátolhatja a grafit szennyeződések migrációját, és biztosíthatja az epitaxis minőségét. Várakozással várjuk a vizsgálatát.

A Vetek Semiconductor élvágó grafitlemez szuszceptort biztosít. A SiC bevonat kiváló hőstabilitást, kiváló vegyszerállóságot és fokozott folyamat egyenletességet biztosít, optimális teljesítményt és megbízhatóságot biztosítva. Tapasztalja meg a hatékonyság és a pontosság következő szintjét a Vetek Semiconductor SiC bevonatú lemezszuszceptorjával.

A grafit tégely a monokristályos húzásnak a monokristályos szilícium -ingt növekedésének folyamatában. a teljesítmény, a minőség és a költséghatékonyság szempontjából az iparág fejlődő igényeinek kielégítésére.

A Vetek Semiconductornál a grafit hőkamerékeket aprólékosan úgy tervezték, hogy megfeleljen a fotovoltaikus ipar szigorú előírásainak, biztosítva az optimális teljesítményt és hatékonyságot a különféle alkalmazásokban. Elkötelezettek vagyunk a nagyteljesítményű grafit hőkezelések gyártására, amelyek kivételes minőséget és költséghatékonyságot kínálnak.

A Pull Szilícium-egykristályos JIG-t úgy tervezték, hogy biztosítsa az ostyák tisztaságát és a forró zónák pontos ellenőrzését a kristályosodás során, fenntartható és hatékony megoldásokat kínálva a fotovoltaikus ipar számára.