Plazmamaratással fókuszáló gyűrű

Az ostyagyártás területén a Vetek félvezető fókuszgyűrűje kulcsszerepet játszik. Ez nem csak egy egyszerű komponens, hanem létfontosságú szerepet játszik a plazmamaratási folyamatban. Először is, a plazmamaratási fókuszgyűrűt úgy tervezték, hogy az ostyát szilárdan a kívánt helyzetben tartsa, így biztosítva a maratási folyamat pontosságát és stabilitását. Az ostya helyén tartásával a fókuszáló gyűrű hatékonyan fenntartja a plazma sűrűségének egyenletességét, ami elengedhetetlen amaratási folyamat.

Ezenkívül a fókuszgyűrű fontos szerepet játszik az ostya oldalsó szennyeződésének megakadályozásában. Az ostyák minősége és tisztasága kritikus fontosságú a chipgyártás szempontjából, ezért minden szükséges intézkedést meg kell tenni annak érdekében, hogy az ostyák tiszták maradjanak a maratási folyamat során. A fókuszgyűrű hatékonyan akadályozza meg a külső szennyeződések és szennyeződések bejutását az ostya felületének oldalaira, így biztosítva a végtermék minőségét és teljesítményét.

A múltbanfókuszáló gyűrűkfőleg kvarcból és szilíciumból készültek. A fejlett ostyagyártásban a szárazmaratás növekedésével azonban a szilícium-karbidból (SiC) készült fókuszáló gyűrűk iránti igény is növekszik. A tiszta szilícium gyűrűkkel összehasonlítva a SiC gyűrűk tartósabbak és hosszabb élettartamúak, így csökkennek a gyártási költségek. A szilícium gyűrűket 10-12 naponta, míg a SiC gyűrűket 15-20 naponta kell cserélni. Jelenleg néhány nagyvállalat, például a Samsung, a SiC helyett bórkarbid kerámiák (B4C) használatát tanulmányozza. A B4C keménysége nagyobb, így az egység tovább tart.

Plazmamarató berendezésben egy fókuszgyűrű felszerelése szükséges a hordozó felületének plazmamaratásához egy kezelőedényben lévő alapon. A fókuszáló gyűrű körülveszi a hordozót egy első résszel a felületének belső oldalán, amelynek kis átlagos felületi érdessége van, hogy megakadályozza a maratás során keletkező reakciótermékek befogását és lerakódását. Ugyanakkor az első régión kívüli második tartomány nagy átlagos felületi érdességgel rendelkezik, ami elősegíti a maratási folyamat során keletkező reakciótermékek felfogását és lerakódását. Az első és a második tartomány közötti határ az a rész, ahol a maratási mennyiség viszonylag jelentős, a plazmamarató berendezésben fókuszáló gyűrűvel van ellátva, és a plazmamaratást a hordozón végezzük.

A VeTek félvezető termékek üzletei: