Üveges szén tégely

1. Anyagjellemzők: Nem grafitizált üveges szén, a teljesítmény minden szempontból meghaladja a hagyományos anyagokat

A Vetekchemicon üveges szén tégelye a fejlett magas hőmérsékletű szintering technológiát alkalmazza, és a polimer prekurzort 3000 ° C-on feldolgozzák egy inert gázkörnyezetben. Mind az üveg sűrűségével, mind a magas hőmérsékleti ellenállással rendelkezik.Az alapvető előnyök között szerepel:

✔ Rendkívül magas tisztaság: A szennyeződés tartalma kevesebb, mint 2ppm (például fém szennyeződések, például alumínium és vas), amely megfelel a félvezető minőségű anyagok igényeinek.

✔ Szélsőséges hőmérsékleti ellenállás: Használható stabilan 3000 ° C -ig vákuumban vagy inert gázban, és az erősség növekszik a hőmérséklet növekedésével (a szilárdság 2400 ° C -on kétszerese a normál hőmérsékleten).

✔ Nulla porozitás és átterjedési ellenállás: Nincsenek nyitott pórusok, és a gázpermeabilitási együttható csak 10 ⁻⁹ cm²/s, ami elkerülheti az olvadt fém oxidációját vagy szennyeződését.

✔ Kiváló elektromos és hővezető képesség: hővezető képesség 6,3 w/(m · k), ellenállás 45 Ω · m, alkalmas nagyfrekvenciás indukciós fűtési folyamatra.

✔ Kémiai korrózióállóság: Rezisztens az erős sav, az erős lúg és az olvadt só -korrózió, a részecske -lecsökkentés, a félvezető termelés tisztaságának biztosítása.

2. alapvető alkalmazás forgatókönyvei a félvezető feldolgozásában

A Vetekchemicon üveges szén tégelytermékei a félvezető gyártás során a teljes folyamat kulcsfontosságú kapcsolatait fedik le, általában:

1) Egyetlen kristály -szilícium növekedés:

A SIC kristálynövekedési kemencéhez használt szigetelő bevonat, javítva a termikus mező stabilitását és csökkenti az energiafogyasztást 20%-kal.

A magas tisztasági jellemzők elkerülik a szilícium olvadék szennyeződését és csökkentik a rácshibákat.

2) Ion implantációs és maratási folyamat:

Mint elektróda és gáz diffúzor a plazma maratási rendszer számára, biztosítja az egyenletes kisülést és a folyamat konzisztenciáját.

Ionellenes bombázási jellemzők meghosszabbítják a berendezések élettartamát.

3) A fémezés és az ötvözet olvasztása:

Ideális tartály olvadt arany, palládium és titánötvözetekhez, a nem nedvesítő felület csökkenti az anyagvesztést.

Alkalmas a rendkívül aktív ritka fémek (például gallium és indium) tisztítására és öntésére.

Figyelmeztetés: Az üvegszén-keresztrecereket nem lehet használni a króm-kobalt-molibdén ötvözetek megolvasztására. Hasonlóképpen, nem használhatók fel egyszerű karbid, például szilícium vagy volfrám megolvasztására.

4) Fejlett csomagolás és tesztelés:

Mint ostyaátviteli hordozóként (dummy ostya) és hőreflektorként, biztosítja a magas hőmérsékleti folyamatok stabilitását.

3. Vállalati termelési erő: Nagyszabású gyártás és technológiai innováció

Mint Kína vezető üvegszén -alapanyag -szállítója, a Vetekchemon a következő alapvető előnyökkel rendelkezik:

✔ Teljes folyamatú független termelés

A nyersanyag polimerizációjától a magas hőmérsékletű szinterelésig a teljes folyamat szabályozható a kötegelt következetesség biztosítása érdekében.

A tömegtermelési kapacitás 5 μm-es szintű ultravékony bevonatot fed le a nagy kereszteződésekre (például átmérő 132 mm, magasság 273 mm-es specifikációk).

✔ Testreszabott feldolgozási képességek

Támogatja a nem szabványos méretű testreszabást (például speciális alakú, csöveket, csöveket, filmeket), ± 0,2 mm tolerancia pontossággal.

✔ Technológiai K + F tartalékok

Együttműködjön a Kínai Tudományos Akadémia tudományos kutatóintézményeivel a nano üveges szén fejlesztése érdekében (akár 3 GPA -ig terjedő erő), és kibővítse a miniatürizált félvezető berendezések alkalmazását.

Fektesse ki a feltörekvő mezőket, például az üzemanyagcellás bipoláris lemezeket és a repülőgép-fúvókákat, hogy elősegítsék az anyagok határokon átnyúló innovációját.