Tantál-karbid bevonat

A VeTek semiconductor a tantál-karbid bevonóanyagok vezető gyártója a félvezetőipar számára. Fő termékkínálatunkban megtalálhatók a CVD-tantál-karbid bevonat alkatrészek, a szinterezett TaC bevonat alkatrészek SiC kristálynövekedéshez vagy félvezető epitaxiás folyamathoz. Az ISO9001 tanúsítvánnyal rendelkező VeTek Semiconductor jól szabályozza a minőséget. A VeTek Semiconductor elkötelezett amellett, hogy újítóvá váljon a tantál-karbid bevonat iparban az iteratív technológiák folyamatos kutatása és fejlesztése révén.

A fő termékek aTaC bevonatú vezetőgyűrű, CVD TaC bevonatú háromszirom vezetőgyűrű, Tantál-karbid TaC bevonatú Halfmoon, CVD TaC bevonatú planetáris SiC epitaxiális szuszceptor, Tantál-karbid bevonógyűrű, Tantál-karbid bevonatú porózus grafit, TaC bevonat rotációs szuszceptor, Tantál-karbid gyűrű, TaC bevonat forgólap, TaC bevonatú ostya szuszceptor, TaC bevonatú terelőgyűrű, CVD TaC bevonat fedél, TaC bevonatú tokmánystb., a tisztaság 5 ppm alatt van, megfelel az ügyfelek igényeinek.

A TaC bevonatú grafitot egy nagy tisztaságú grafit szubsztrátum felületének finom tantál-karbid réteggel való bevonásával állítják elő szabadalmaztatott vegyi gőzleválasztásos (CVD) eljárással. Az előny az alábbi képen látható:

Excellent properties of TaC coating graphite

A tantál-karbid (TaC) bevonat magas, akár 3880°C-ig terjedő olvadáspontja, kiváló mechanikai szilárdsága, keménysége és hősokkállósága miatt keltett figyelmet, így vonzó alternatívája a magasabb hőmérsékleti igényű összetett félvezető epitaxiás eljárásoknak. mint például az Aixtron MOCVD rendszer és az LPE SiC epitaxiás eljárás. Széles körben alkalmazható a PVT módszer SiC kristálynövekedési folyamatában is.

Főbb jellemzők:

●Hőmérséklet stabilitás

●Ultra magas tisztaságú

●Ellenállás H2, NH3, SiH4,Si

●Hőanyaggal szembeni ellenállás

●Erős tapadás a grafithoz

●Konform bevonat lefedettség

● Méret akár 750 mm átmérőig (az egyetlen gyártó Kínában eléri ezt a méretet)

Alkalmazások:

●Ostyahordozó

● Induktív fűtési szuszceptor

● Ellenállásos fűtőelem

●Műholdas lemez

●Zuhanyfej

●Vezetőgyűrű

●LED Epi vevő

●Befecskendező fúvóka

●Maszkoló gyűrű

● Hővédő pajzs

Tantál-karbid (TaC) bevonat mikroszkopikus keresztmetszeten:

the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating

A VeTek Semiconductor tantál-karbid bevonat paramétere:

A TaC bevonat fizikai tulajdonságai
Sűrűség	14,3 (g/cm³)
Fajlagos emissziós tényező	0.3
Hőtágulási együttható	6,3 10^-6/K
Keménység (HK)	2000 HK
Ellenállás	1×10^-5Ohm*cm
Hőstabilitás	<2500 ℃
A grafit mérete megváltozik	-10-20um
Bevonat vastagsága	≥20um tipikus érték (35um±10um)

TaC bevonat EDX adatok：

EDX data of TaC coating

TaC bevonat kristályszerkezeti adatok:

Elem	Atom százalék
	Pt. 1	Pt. 2	Pt. 3	Átlagos
C K	52.10	57.41	52.37	53.96
A M	47.90	42.59	47.63	46.04

TaC bevonatú tokmány TaC Coating Planetary Disk
TaC bevonatú lemez TaC bevonat forgólap TaC bevonat vevő CVD TaC bevonat fedél CVD TaC bevonógyűrű TaC bevonólemez

View as

Tantalum karbid bevont cső kristálynövekedéshez

A tantalum karbid bevont csövet a kristálynövekedéshez elsősorban a SIC kristály növekedési folyamatában használják. A Vetek Semiconductor sok éven át tartja a tantalum karbid bevonatú csövet a kristálynövekedéshez, és évek óta dolgozik a TAC bevonat területén. Termékeink magas tisztaságú és magas hőmérsékleti ellenállással rendelkeznek. Bízunk benne, hogy Kínában hosszú távú partnerré válhat. Nyugodtan érdeklődjön minket.

Mutass többet >> Kérdés küldése >>

TAC bevonatgyűrű a SIC epitaxiális reaktorhoz

A Vetek Semiconductor a Kínában a SIC epitaxiális reaktor TAC bevonatú gyűrű vezető gyártó és technológiai újítója, amelynek célja a SIC epitaxiális reaktorok nagy teljesítményű megoldásainak biztosítása. Sok éves tapasztalattal rendelkezik a TAC bevonási technológiában. A TAC bevonatú gyűrű nagy tisztaság, nagy stabilitás, kiváló korrózióállóság stb. Jellemzőivel rendelkezik, és hosszú távú stabil teljesítményt nyújthat az epitaxiális reaktorok kemény munkakörnyezetében. Bízunk benne, hogy hosszú távú stratégiai partnerséget alakíthatunk ki veled.

Mutass többet >> Kérdés küldése >>

Tantál-karbid bevonatú félhold alkatrész LPE-hez

A VeTek Semiconductor a tantál-karbiddal bevont félholdas alkatrészek vezető szállítója Kínában az LPE-hez, sok éve a TaC bevonat technológiájára összpontosítva. Tantál-karbid bevonatú félhold alkatrészünket LPE-hez folyékony fázisú epitaxiás folyamathoz tervezték, és ellenáll a 2000 Celsius-fok feletti magas hőmérsékletnek. Kiváló anyagteljesítménynek és folyamatinnovációnak köszönhetően termékeink élettartama vezető szinten van az iparágban. A VeTek Semiconductor örömmel várja, hogy hosszú távú partnere legyen Kínában.

Mutass többet >> Kérdés küldése >>

TAC bevont vezető gyűrű

A TAC bevonatú vezetőgyűrű kiváló minőségű grafitból és TAC bevonatból készül. A SIC kristályok PVT módszerrel történő előállításában a Vetek Semiconductor TAC bevonatú vezetőgyűrűt elsősorban a légáram irányítására és vezérlésére használják, az egykristály növekedési folyamatának optimalizálására és az egykristály hozamának javítására. Kiváló TAC -bevonási technológiával termékeink kiváló hőmérsékleti ellenállással, korrózióállósággal és jó mechanikai tulajdonságokkal rendelkeznek.

Mutass többet >> Kérdés küldése >>

Tantalum karbid bevonatú bolygó rotációs lemez

A VeTek Semiconductor a tantál-karbiddal bevont bolygóforgató lemezek vezető gyártója és szállítója Kínában, sok éve a TaC bevonat technológiájára összpontosítva. Termékeink nagy tisztaságúak és kiváló magas hőmérsékletállósággal rendelkeznek, amelyet a félvezetőgyártók széles körben elismernek. A VeTek félvezető tantál-karbid bevonatú bolygókerekes forgótárcsa az ostya-epitaxiás ipar gerincévé vált. Bízunk benne, hogy hosszú távú partnerséget alakíthatunk ki Önnel a technológiai fejlődés és a termelés optimalizálásának közös előmozdítása érdekében.

Mutass többet >> Kérdés küldése >>

TAC bevonatú grafit ostyahordozó

A VeTek Semiconductor gondosan megtervezett TaC bevonatú grafit ostyahordozót az ügyfelek számára. Nagy tisztaságú grafitból és TaC bevonatból áll, amely alkalmas különféle ostya epitaxiális ostyafeldolgozásra. Hosszú évek óta foglalkozunk SiC és TaC bevonattal. A SiC bevonattal összehasonlítva a TaC bevonatú grafit ostyahordozónk magasabb hőmérséklet- és kopásállósággal rendelkezik. Bízunk benne, hogy hosszú távú partnere lehetünk Kínában.

Mutass többet >> Kérdés küldése >>

Professzionális Tantál-karbid bevonat gyártóként és beszállítóként Kínában van saját gyárunk. Függetlenül attól, hogy testreszabott szolgáltatásokra van szüksége a régió konkrét igényeinek kielégítéséhez, vagy a Kínában gyártott fejlett és tartós Tantál-karbid bevonat -et szeretne vásárolni, üzenetet hagyhat nekünk.

QR-kód

Rólunk

Termékek

Lépjen kapcsolatba velünk

Telefon
+86-18069220752
Fax
+86-579-87223657
Email
anny@veteksemi.com
Cím
Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi megye, Jinhua City, Zhejiang tartomány, Kína

Web menü

Termékkeresés

Nyelv

Kilépés a menüből

Tantál-karbid bevonat

Főbb jellemzők:

Alkalmazások:

Tantál-karbid (TaC) bevonat mikroszkopikus keresztmetszeten:

A VeTek Semiconductor tantál-karbid bevonat paramétere:

TaC bevonat EDX adatok：

TaC bevonat kristályszerkezeti adatok:

Tantalum karbid bevont cső kristálynövekedéshez

TAC bevonatgyűrű a SIC epitaxiális reaktorhoz

Tantál-karbid bevonatú félhold alkatrész LPE-hez

TAC bevont vezető gyűrű

Tantalum karbid bevonatú bolygó rotációs lemez

TAC bevonatú grafit ostyahordozó

Kérdés küldése

QR-kód

Rólunk

Termékek

Lépjen kapcsolatba velünk

Telefon

Fax

Email

Cím