Termékek

Fejlett SIC tömítés alkatrész -gyártó és gyár Kínában. A Vetek Semiconducto SIC tömítő része nagy teljesítményű tömítő alkatrész, amelyet széles körben használnak a félvezető feldolgozásában és más szélsőséges magas hőmérsékleten és magas nyomású folyamatokban. Üdvözöljük további konzultációját.

A Vetek Semiconductor egy professzionális aluminális kerámia vákuumgyártó és gyár Kínában. Az alumínium-oxid-i kerámia vákuumban a Chuck nagy tisztességes alumínium-oxid kerámiát használ, kiváló hőállósággal, kémiai ellenállással és mechanikai szilárdsággal. Elsősorban az ostya és a szubsztrátok rögzítésére és támogatására használják. Ez egy nagy teljesítményű berendezés a félvezető feldolgozásához. Üdvözöljük további kérdéseit.

Professzionális kemény kompozit szénszálas filc termékgyártóként és beszállítójaként Kínában a Vetek Semiconductor kemény kompozit szénszálas filc egy kiváló minőségű anyag, amelyet magas hőmérsékletű alkalmazásokhoz terveztek, kiváló hőállóságot és szigetelési teljesítményt biztosítva. Ezt a terméket széles körben használják a szén -szén kompozit PECVD raklapban, hogy biztosítsák a stabilitást és a megbízhatóságot szélsőséges körülmények között. Üdvözöljük további konzultációját.

Professzionális újítóként és a tantalum karbid bevont gyűrűs termékek vezetőjeként Kínában a Vetek Semiconductor Tantalum karbid bevont gyűrűje pótolhatatlan szerepet játszik a SIC kristály növekedésében, kiváló hőmérsékleti ellenállásával, kopásállóságával és kiváló hővezető képességével. Üdvözöljük további konzultációját.

Kínában a Szilícium -karbid -ostya -termékek vezető gyártójaként és szállítójaként a Vetek Semiconductor szilícium -karbid -ostya, Chuck pótolhatatlan szerepet játszik az epitaxiális növekedési folyamatban, kiváló magas hőmérsékleti ellenállásával, kémiai korrózióállóságával és termikus sokk ellenállásával. Üdvözöljük további konzultációját.

A szilícium -karbid zuhanyfej kiválóan magas hőmérsékletű toleranciával, kémiai stabilitással, hővezető képességgel és jó gázeloszlású teljesítménygel rendelkezik, amelyek elérhetik az egységes gázeloszlást és javíthatják a film minőségét. Ezért általában magas hőmérsékleten, például kémiai gőzlerakódásban (CVD) vagy fizikai gőzlerakódási (PVD) folyamatokban használják. Üdvözöljük további konzultációját velünk, Vetek Semiconductor.