Termékek
Fizikai gőzlerakódás
  • Fizikai gőzlerakódásFizikai gőzlerakódás

Fizikai gőzlerakódás

A Vetek félvezető fizikai gőzleválasztás (PVD) egy fejlett technológiai technológia, amelyet széles körben használnak a felületkezelésben és a vékonyréteg-előkészítésben. A PVD technológia fizikai módszereket használ az anyagok szilárdból vagy folyékonyból gázzá alakítására, és vékony filmréteget képez a célhordozó felületén. Ennek a technológiának a nagy pontosság, a nagy egyenletesség és az erős tapadás előnyei vannak, és széles körben használják félvezetőkben, optikai eszközökben, szerszámbevonatokban és dekorációs bevonatokban. Üdvözöljük, hogy megbeszéljük velünk!

A Vetek Semiconductor egy kínai gyártó, aki fejlett félvezető anyagokat szállít a fizikai gőzleválasztási folyamatokhoz, mint példáulSIC bevont tégely, üveges széntégely,SiC bevonatú grafit fűtőtestek,Elektronsugaras pisztoly párologtatótégelyek.


A PVD folyamatának alapelvei


A fizikai gőzfázisú leválasztási eljárások általában számos specifikus módszert tartalmaznak, mint például a bepárlás, a porlasztás és az ionozás. Az alkalmazott módszertől függetlenül a fizikai gőzleválasztás alapelve az, hogy az anyagot a forrásból magas hőmérsékletű hevítéssel vagy ionos bombázással elpárologtatják. Az elpárologtatott anyag atomok vagy molekulák formájában mozog vákuumban vagy alacsony nyomású környezetben, és vékony filmmé kondenzálódik a hordozó felületén. Ezt a folyamatot elsősorban fizikai eszközökkel érik el, így elkerülhető a kémiai reakciók befolyása az anyag tisztaságára.


A fizikai gőzlerakódási technológia előnyei


Nagy tisztaságú és nagy sűrűségű: A PVD-leválasztott fóliák általában nagy tisztaságúak és nagy sűrűségűek, ami jelentősen javíthatja a bevonat teljesítményét, például a kopásállóságot, a korrózióállóságot és a keménységet.

Erős film tapadása: A PVD -folyamat egy olyan filmet képezhet, amelynek erős tapadása van a szubsztrátumon, biztosítva, hogy a film használat közben nem könnyű lehúzni, meghosszabbítva a termék élettartamát.

Széles anyagválaszték.

Környezetvédelem és fenntarthatóság: Az olyan folyamatokhoz képest, mint a kémiai gőzleválasztás (CVD), a fizikai gőzleválasztás (PVD) folyamat környezetbarátabb, nem jár káros gázok képződésével, és csökkenti a környezet szennyezését.


PVD technológia alkalmazása


Félvezető ipar: A félvezetőgyártásban a fizikai gőzfázisú leválasztást gyakran használják vékonyréteg-elektródák, diffúziós akadályok és fémösszekötők előállítására, hogy biztosítsák az alkatrészek jó vezetőképességét és stabilitását.


pvd-process

Optikai eszközök: A fizikai gőzleválasztási technológiát széles körben használják optikai bevonatokban, például tükrök és lencsék tükröződésgátló bevonataiban, valamint optikai szűrők gyártásában az optikai eszközök teljesítményének javítására.


physical-vapor-deposition-process


Hot Tags: Fizikai gőzlerakódás
Kérdés küldése
Elérhetőségei
Ha kérdése van a szilícium-karbid bevonattal, a tantál-karbid bevonattal, a speciális grafittal vagy az árlistával kapcsolatban, kérjük, hagyja nekünk e-mail-címét, és 24 órán belül felvesszük Önnel a kapcsolatot.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept