Termékek
Szilikon talapzat
  • Szilikon talapzatSzilikon talapzat
  • Szilikon talapzatSzilikon talapzat

Szilikon talapzat

A VeTek Semiconductor Silicon Talapzat kulcsfontosságú eleme a félvezető diffúziós és oxidációs folyamatoknak. A szilícium csónakok magas hőmérsékletű kemencékben való szállítására szolgáló dedikált platformként a szilícium talapzat számos egyedi előnnyel rendelkezik, beleértve a jobb hőmérséklet egyenletességet, az optimalizált lapkaminőséget és a félvezető eszközök jobb teljesítményét. További termékinformációkért forduljon hozzánk bizalommal.

A VeTek Semiconductor szilícium szuszceptor egy tiszta szilícium termék, amelyet arra terveztek, hogy biztosítsa a hőmérséklet stabilitását a termikus reaktor csövében a szilícium lapka feldolgozása során, ezáltal javítva a hőszigetelés hatékonyságát. A szilícium lapka feldolgozása rendkívül precíz folyamat, és a hőmérséklet döntő szerepet játszik, közvetlenül befolyásolva a szilícium ostyafilm vastagságát és egyenletességét.


A szilícium talapzat a kemence termikus reaktorcsőjének alsó részében található, megtámasztva a szilíciumotostyahordozómiközben hatékony hőszigetelést biztosít. A folyamat végén a szilícium lapkahordozóval együtt fokozatosan lehűl környezeti hőmérsékletre.


A VeTek félvezető szilícium talapzatok alapvető funkciói és előnyei:

Stabil támogatást nyújt a folyamat pontosságának biztosítása érdekében

A szilícium talapzat stabil és rendkívül hőálló támasztófelületet biztosít a szilíciumhajónak a magas hőmérsékletű kemencekamrában. Ez a stabilitás hatékonyan megakadályozhatja a szilícium csónak elmozdulását vagy megdöntését a feldolgozás során, elkerülve ezzel a légáramlás egyenletességét vagy a hőmérséklet-eloszlás tönkretételét, biztosítva a folyamat nagy pontosságát és következetességét.


Növelje a hőmérséklet egyenletességét a kemencében és javítsa az ostya minőségét

A szilícium -csónak elkülönítésével a kemence aljával vagy falával való közvetlen érintkezésből a szilícium alapja csökkentheti a vezetés által okozott hőveszteséget, ezáltal elérve egységesebb hőmérsékleti eloszlást a termikus reakciócsőben. Ez az egységes termikus környezet elengedhetetlen a ostya diffúzió és az oxidréteg egységességének eléréséhez, ami jelentősen javítja a ostya általános minőségét.


Optimalizálja a hőszigetelési teljesítményt és csökkenti az energiafogyasztást

A szilícium -alapanyag kiváló hőszigetelő tulajdonságai csökkentik a kemencakamra hőveszteségét, ezáltal jelentősen javítva a folyamat energiahatékonyságát. Ez a hatékony hőgazdálkodási mechanizmus nemcsak felgyorsítja a fűtési és hűtési ciklust, hanem csökkenti az energiafogyasztási és működési költségeket, és gazdaságosabb megoldást kínál a félvezető gyártásához.


A Vetek félvezető szilícium talapzatának előírásai


Termékszerkezet
Integrált, hegesztés
Vezetőképes típusú/dopping
Szokás
Ellenállás
Alacsony ellenállás (például <0,015, <0,02 ...)
Mérsékelt ellenállás (E.G.1-4)
Nagy ellenállás (például 60-90)
Ügyfél testreszabása
Anyag típusa
Polikristályos/egyetlen kristály
Kristály orientáció
Testreszabott


VeTek Semiconductor Silicon Pedestal production shops

Graphite epitaxial substrateSemiconductor EquipmentGraphite ring assemblySemiconductor process equipment


Hot Tags: Szilikon talapzat
Kérdés küldése
Elérhetőségei
Ha kérdése van a szilícium-karbid bevonattal, a tantál-karbid bevonattal, a speciális grafittal vagy az árlistával kapcsolatban, kérjük, hagyja nekünk e-mail-címét, és 24 órán belül felvesszük Önnel a kapcsolatot.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept