Termékek
Előmelegítő gyűrű
  • Előmelegítő gyűrűElőmelegítő gyűrű

Előmelegítő gyűrű

Az előmelegítő gyűrűt a félvezető epitaxia folyamatában használják az ostyák előmelegítésére és az ostyák hőmérsékletének stabilabbá és egységesebbé tételére, ami nagy jelentőséggel bír az epitaxisrétegek magas színvonalú növekedése szempontjából. A Vetek Semiconductor szigorúan ellenőrzi ennek a terméknek a tisztaságát, hogy megakadályozza a szennyeződések illékonyságát magas hőmérsékleten.

A Pre-Heat Ring egy kulcsfontosságú berendezés, amelyet kifejezetten a félvezetőgyártás epitaxiális (EPI) folyamatához terveztek. Az EPI folyamat előtti ostyák előmelegítésére használják, biztosítva a hőmérséklet stabilitását és egyenletességét az epitaxiális növekedés során.


A Vetek Semiconductor által gyártott EPI Pre Heat Ring számos figyelemre méltó tulajdonságot és előnyt kínál. Először is, nagy hővezetőképességi anyagok felhasználásával készülnek, lehetővé téve az ostya felületére történő gyors és egységes hőátadást. Ez megakadályozza a hotspotok és a hőmérsékleti gradiensek kialakulását, biztosítva a következetes lerakódást, és javítva az epitaxiális réteg minőségét és egységességét. Ezenkívül az EPI előmelegítő gyűrűnk fejlett hőmérséklet-szabályozó rendszerrel van felszerelve, amely lehetővé teszi az előmelegítési hőmérséklet pontos és következetes szabályozását. Ez a szabályozási szint növeli az olyan kulcsfontosságú lépések pontosságát és megismételhetőségét, mint a kristálynövekedés, az anyaglerakódás és az interfészreakciók az EPI folyamat során.


A tartósság és a megbízhatóság lényeges szempont terméktervezésünkben. Az EPI előmelegítő gyűrűt úgy építették, hogy ellenálljon a magas hőmérsékletnek és üzemi nyomásnak, megőrizve a stabilitást és a teljesítményt hosszú ideig. Ez a tervezési megközelítés csökkenti a karbantartási és csereköltségeket, hosszú távú megbízhatóságot és működési hatékonyságot biztosítva. Az EPI előzetes hőgyűrű telepítése és működése egyértelmű, mivel kompatibilis a közös EPI berendezésekkel. Felhasználóbarát ostya-elhelyezési és visszakeresési mechanizmust tartalmaz, javítva a kényelmet és az operatív hatékonyságot.


A VeTek Semiconductornál testreszabási szolgáltatásokat is kínálunk az ügyfelek egyedi igényeinek kielégítésére. Ez magában foglalja az EPI előmelegítő gyűrű méretének, alakjának és hőmérsékleti tartományának az egyedi gyártási igényekhez való igazítását. Az epitaxiális növekedésben és a félvezető eszközök előállításában részt vevő kutatók és gyártók számára a Vetek Semiconductor EPI Pre Heat Ring kivételes teljesítményt és megbízható támogatást nyújt. Kritikus eszközként szolgál a magas színvonalú epitaxiális növekedés elérésében és a hatékony félvezető eszközök gyártási folyamatainak megkönnyítésében.


A CVD SIC FILM SEM ADATAI

SEM DATA OF CVD SIC FILM

A CVD SiC bevonat alapvető fizikai tulajdonságai:

A CVD SIC bevonat alapvető fizikai tulajdonságai
Ingatlan Tipikus érték
Kristályszerkezet FCC β fázisú polikristályos, főleg (111) orientált
SIC bevonat sűrűsége 3,21 g/cm³
SiC bevonat Keménység 2500 Vickers keménység (500 g terhelés)
Szemcseméret 2 ~ 10 mm
Kémiai tisztaság 99,99995%
Hőkapacitás 640 J · kg-1· K-1
Szublimációs hőmérséklet 2700 ℃
Hajlító szilárdság 415 MPa RT 4 pontos
Young's Modulus 430 Gpa 4pt kanyar, 1300 ℃
Hővezető képesség 300w · m-1· K-1
Hőtágulás (CTE) 4,5 × 10-6K-1


VeTek SemiconductorElőmelegítő gyűrűGyártóüzlet

SiC Graphite substratePre-Heat Ring testSilicon carbide ceramic processingEPI process equipment


Hot Tags: Előmelegítő gyűrű
Kérdés küldése
Elérhetőségei
Ha kérdése van a szilícium-karbid bevonattal, a tantál-karbid bevonattal, a speciális grafittal vagy az árlistával kapcsolatban, kérjük, hagyja nekünk e-mail-címét, és 24 órán belül felvesszük Önnel a kapcsolatot.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept