Üdvözöljük az ügyfelek, hogy meglátogassák a Vetekchemon SIC Coating/ TAC bevonatát és az Epitaxy Process Factory -t

Az ügyfelek meglátogatják a gyárat: népszerűsítik az együttműködés új fejezetét

A közelmúltban nagyon nagy megtiszteltetés számunkra, hogy fontos ügyfeleket fogadhatunk a világ számos régiójából, hogy meglátogassuk a Vetek Semiconductor Kínai gyárát. Ez a látogatás nemcsak lehetővé teszi az ügyfelek számára, hogy mélyreható megértést szerezzenek technológiai innovációnkról és termelési erőnkről a területekenFélvezető epitaxia folyamatés a félvezető bevonat, de tovább elmélyíti az ügyfelekkel fennálló együttműködési kapcsolatunkat.

A Vetekchemicon ügyfelei megvizsgálják a tantalum karbid bevonatú epitaxiális érzelmeinek részleteit

Gyári látogatás: A termelési folyamat mélyreható megértése

A látogatás során az ügyfelek nagy érdeklődést mutattak a mi irántSzilícium karbid bevonatésTantalum karbid bevonatgyártási vonalak. K + F -csoportunk részletesen bevezette a termékek technikai előnyeit és a szigorú minőség -ellenőrzési rendszert. Mint a szilícium-karbid bevonat és a tantalum karbid bevonat vezető gyártója, mindig elkötelezettek vagyunk a legmodernebb technológia alkalmazása mellett a terméktervezéshez és a gyártáshoz annak biztosítása érdekében, hogy minden alkatrész megfeleljen a nemzetközi szabványoknak, és megfeleljen a különböző ügyfelek igényeinek.

Technológiai kijelző: Az iparfejlesztés iránya vezetése

A látogatás során cégünk bemutatta a legfrissebb fejlett fejlődéstEpitaxiális folyamatoldat, lefedi a teljes folyamatot a tervezéstől, a termeléstől a minőség -ellenőrzésig. Innovációs képességünket az ügyfelek nagyon elismerték, és tele vannak a jövőbeli együttműködésre vonatkozó elvárásokkal. Különösen a félvezető bevonási alkalmazások területén a Vetek Semiconductor folyamatosan előmozdítja az ipar fejlődését egyedülálló műszaki előnyeivel és piaci betekintésével.

Jövőbeli kilátások: elmélyítik az együttműködést és a nyertes jövőt

Ez az ügyfél látogatása nemcsak a termelési erőnk elismerése, hanem szilárd alapot teremt a két fél a jövőbeni hosszú távú együttműködéséhez. Hisszük, hogy mindkét fél közös erőfeszítéseivel eredményesebb eredményeket fogunk elérni a területenfélvezető epitaxia folyamatés félvezető bevonat a jövőben.