Termékek

A Vetek Semiconductor a Kínában a CVD TAC Coating Crucible Products professzionális gyártója és vezetője. A CVD TAC bevonat -tégely a tantalum szén (TAC) bevonására épül. A tantalum szénbevonat egyenletesen lefedi a tégely felületét kémiai gőzlerakódás (CVD) eljárás révén, hogy javítsa a hőállóságot és a korrózióállóságot. Ez egy anyagi eszköz, amelyet kifejezetten magas hőmérsékletű szélsőséges környezetben használnak. Üdvözöljük további konzultációját.

A Vetek Semiconductor a Kínában a SIC bevonattal ellátott ostya -tartó termékek profi gyártója és vezetője. A SIC bevonatú ostya tartója a félvezető feldolgozás során az epitaxia folyamatának ostya tartója. Ez egy pótolhatatlan eszköz, amely stabilizálja az ostyát és biztosítja az epitaxiális réteg egyenletes növekedését. Üdvözöljük további konzultációját.

Professzionális CVD TAC bevonó ostya -fuvarozó termékgyártóként és gyáraként Kínában a Vetek Semiconductor CVD TAC bevonó ostyahordozó egy olyan ostyahordozó szerszám, amelyet kifejezetten magas hőmérsékletű és korrozív környezetekhez terveztek a félvezető gyártásában. És a CVD TAC bevonó ostyahordozó nagy mechanikai szilárdsággal, kiváló korrózióállósággal és hőstabilitással rendelkezik, biztosítva a szükséges garanciát a kiváló minőségű félvezető eszközök gyártásához. További kérdéseit szívesen látjuk.

A Vetek Semiconductor egy professzionális EPI ostya -tulajdonos és gyár Kínában. Az EPI ostya tartója a félvezető feldolgozás során az epitaxia folyamatának ostya tulajdonosa. Ez egy kulcsfontosságú eszköz az ostya stabilizálására és az epitaxiális réteg egységes növekedésének biztosítására. Széles körben használják olyan epitaxis berendezésekben, mint a MOCVD és az LPCVD. Ez egy pótolhatatlan eszköz az epitaxia folyamatában. Üdvözöljük további konzultációját.

A Vetek Semiconductor Aixtron műholdas ostya hordozója egy Aixtron berendezésben használt ostyahordozó, amelyet elsősorban a MOCVD folyamatokban használnak, és különösen alkalmas a magas hőmérsékleten és a nagy pontosságú félvezető feldolgozási folyamatokhoz. A hordozó stabil ostya -támogatást és egységes filmlerakódást biztosíthat a moCVD epitaxiális növekedés során, ami elengedhetetlen a réteg lerakódási folyamatához. Üdvözöljük további konzultációját.

A Vetek Semiconductor egy professzionális LPE HalfMoon SIC EPI reaktor termékgyártója, újító és vezető Kínában. Az LPE HalfMoon SIC EPI reaktor egy olyan eszköz, amelyet kifejezetten kiváló minőségű szilícium-karbid (SIC) epitaxiális rétegek előállítására terveztek, amelyeket elsősorban a félvezető iparban használnak. Üdvözöljük további kérdéseiben.