hírek

A vákuumbevonat magában foglalja a filmanyagok párologtatását, a vákuumszállítást és a vékony film növekedését. A különféle filmanyag -párologtatási módszerek és szállítási folyamatok szerint a vákuumbevonat két kategóriába sorolható: PVD és CVD.

Ez a cikk leírja a Vetek Semiconductor porózus grafitjának fizikai paramétereit és termékjellemzőit, valamint annak specifikus alkalmazásait a félvezető feldolgozásában.

Ez a cikk elemzi a tantalum karbid bevonat és a szilícium -karbid bevonat termékjellemzőit és alkalmazási forgatókönyveit több szempontból.

A vékonyréteg -lerakódás létfontosságú a chip gyártásában, mikroeszközöket hozva létre azáltal, hogy a filmeket 1 mikron vastagság alá helyezi CVD, ALD vagy PVD -n keresztül. Ezek a folyamatok félvezető komponenseket építenek váltakozó vezetőképes és szigetelő filmek révén.

A félvezető gyártási folyamat nyolc lépést foglal magában: ostyafeldolgozás, oxidáció, litográfia, maratás, vékony film lerakódás, összekapcsolás, tesztelés és csomagolás. A homokból származó szilícium ostyákká, oxidált, mintázott és nagy pontosságú áramkörökhöz maratva.

Ez a cikk azt írja le, hogy a LED -szubsztrát a zafír legnagyobb alkalmazása, valamint a zafírkristályok előkészítésének fő módszerei: a zafír kristályok termesztése czochralski módszerrel, a zafírkristályok növelése a Kyropoulos módszerrel, a zafírkristályok növelése útmutató módszerrel, és növekvő zafírkristályok.