hírek

Magas tisztaság: A kémiai gőzlerakódás (CVD) által termesztett szilícium -epitaxiális réteg rendkívül magas tisztaságú, jobb felületi sík és alacsonyabb hibás sűrűségű, mint a hagyományos ostyák.

A szilárd szilícium -karbid (SIC) egyedi fizikai tulajdonságai miatt a félvezető gyártás egyik legfontosabb anyagává vált. Az alábbiakban elemezzük annak előnyeit és gyakorlati értékét, annak fizikai tulajdonságai és a félvezető berendezések (például ostyahordozók, zuhanyfejek, maratási fókuszgyűrűk stb.) Félén történő felhasználása alapján.