Hír

Ipari hírek

Tantalum karbid technológia áttörés, a SIC epitaxiális szennyezés 75%-kal csökkent?27 2024-07

Tantalum karbid technológia áttörés, a SIC epitaxiális szennyezés 75%-kal csökkent?

A közelmúltban a Német Kutatóintézet, a Fraunhofer IISB áttörést hajtott végre a tantalum karbid bevonási technológia kutatásában és fejlesztésében, és kifejlesztett egy spray -bevonat -megoldást, amely rugalmasabb és környezetbarátabb, mint a CVD lerakódási megoldás, és kereskedelmet folytatott.
3D nyomtatási technológia feltáró alkalmazása a félvezető iparban19 2024-07

3D nyomtatási technológia feltáró alkalmazása a félvezető iparban

A gyors technológiai fejlődés korszakában a 3D nyomtatás, mint a fejlett gyártási technológia fontos képviselője, fokozatosan megváltoztatja a hagyományos gyártás arcát. A technológia folyamatos érettségével és a költségek csökkentésével a 3D nyomtatási technológia számos területen széles körű alkalmazási kilátásokat mutatott, mint például az űrrepülés, az autógyártás, az orvosi berendezések és az építészeti tervezés, és elősegítette ezen iparágak innovációját és fejlesztését.
Szilícium (SI) epitaxia előkészítő technológia16 2024-07

Szilícium (SI) epitaxia előkészítő technológia

Az egykristályos anyagok önmagukban nem felelnek meg a különféle félvezető eszközök növekvő előállításának igényeinek. 1959 végén egy vékony réteg egykristályos anyag növekedési technológiáját fejlesztették ki - az epitaxiális növekedést.
X
Cookie-kat használunk, hogy jobb böngészési élményt kínáljunk, elemezzük a webhely forgalmát és személyre szabjuk a tartalmat. Az oldal használatával Ön elfogadja a cookie-k használatát.Adatvédelmi szabályzat
ElutasítElfogadás