Otthon
Rólunk
A Társaságról
GYIK
Műszaki szakértők
Gyártó berendezések
Tanúsítványunk
Szolgáltatásunk
Termékek
Tantál-karbid bevonat
SIC egykristály növekedési folyamat pótalkatrészek
SiC epitaxiás folyamat
UV LED vevő
Szilícium-karbid bevonat
Szilárd szilícium -karbid
Szilícium -epitaxia
Szilícium -karbid -epitaxia
MOCVD technológia
RTA/RTP folyamat
ICP/PSS maratási folyamat
Egyéb folyamat
ALD
Speciális grafit
Pirolitikus szénbevonat
Üveges szénbevonat
Porózus grafit
Izotropikus grafit
Szilikonizált grafit
Nagy tisztaságú grafitlap
Szénszálas
C/c kompozit
Merev filc
Puha filc
Szilícium-karbid kerámia
Nagy tisztaságú sic por
Oxidációs és diffúziós kemence
Egyéb félvezető kerámiák
Félvezető kvarc
Alumínium -oxid kerámia
Szilícium -nitrid
Porózus sic
Ostya
Felszíni kezelési technológia
Műszaki szolgálat
Hír
Céges hírek
Ipari hírek
Letöltés
Letöltés
Kérdés küldése
Lépjen kapcsolatba velünk
English
Español
Português
русский
Français
日本語
Deutsch
tiếng Việt
Italiano
Nederlands
ภาษาไทย
Polski
한국어
Svenska
magyar
Malay
বাংলা ভাষার
Dansk
Suomi
हिन्दी
Pilipino
Türkçe
Gaeilge
العربية
Indonesia
Norsk
تمل
český
ελληνικά
український
Javanese
فارسی
தமிழ்
తెలుగు
नेपाली
Burmese
български
ລາວ
Latine
Қазақша
Euskal
Azərbaycan
Slovenský jazyk
Македонски
Lietuvos
Eesti Keel
Română
Slovenski
मराठी
Srpski језик
Web menü
Otthon
Rólunk
A Társaságról
GYIK
Műszaki szakértők
Gyártó berendezések
Tanúsítványunk
Szolgáltatásunk
Termékek
Tantál-karbid bevonat
SIC egykristály növekedési folyamat pótalkatrészek
SiC epitaxiás folyamat
UV LED vevő
Szilícium-karbid bevonat
Szilárd szilícium -karbid
Szilícium -epitaxia
Szilícium -karbid -epitaxia
MOCVD technológia
RTA/RTP folyamat
ICP/PSS maratási folyamat
Egyéb folyamat
ALD
Speciális grafit
Pirolitikus szénbevonat
Üveges szénbevonat
Porózus grafit
Izotropikus grafit
Szilikonizált grafit
Nagy tisztaságú grafitlap
Szénszálas
C/c kompozit
Merev filc
Puha filc
Szilícium-karbid kerámia
Nagy tisztaságú sic por
Oxidációs és diffúziós kemence
Egyéb félvezető kerámiák
Félvezető kvarc
Alumínium -oxid kerámia
Szilícium -nitrid
Porózus sic
Ostya
Felszíni kezelési technológia
Műszaki szolgálat
Hír
Céges hírek
Ipari hírek
Letöltés
Letöltés
Kérdés küldése
Lépjen kapcsolatba velünk
Termékkeresés
Nyelv
English
Español
Português
русский
Français
日本語
Deutsch
tiếng Việt
Italiano
Nederlands
ภาษาไทย
Polski
한국어
Svenska
magyar
Malay
বাংলা ভাষার
Dansk
Suomi
हिन्दी
Pilipino
Türkçe
Gaeilge
العربية
Indonesia
Norsk
تمل
český
ελληνικά
український
Javanese
فارسی
தமிழ்
తెలుగు
नेपाली
Burmese
български
ລາວ
Latine
Қазақша
Euskal
Azərbaycan
Slovenský jazyk
Македонски
Lietuvos
Eesti Keel
Română
Slovenski
मराठी
Srpski језик
Kilépés a menüből
itthon
Hír
Ipari hírek
Ipari hírek
Céges hírek
Ipari hírek
04
2024-09
Mennyire vékony lehet a Taiko -folyamat szilícium ostyákat készíteni?
A Taiko -folyamat elvei, műszaki előnyök és folyamat eredetének felhasználásával megveti a szilikon ostyákat.
29
2024-08
8 hüvelykes SIC epitaxiális kemence és homoepitaxiális folyamatkutatás
8 hüvelykes SIC epitaxiális kemence és homoepitaxiális folyamatkutatás
28
2024-08
Félvezető szubsztrát lapka: Szilícium, GaAs, SiC és GaN anyagtulajdonságai
A cikk a félvezető szubsztrát lapkák anyagtulajdonságait elemzi, mint például a szilícium, a GaAs, a SiC és a GaN
«
1
...
30
31
32
33
34
...
47
»
WhatsApp
Tina
E-mail
Andy
VeTek
X
Cookie-kat használunk, hogy jobb böngészési élményt kínáljunk, elemezzük a webhely forgalmát és személyre szabjuk a tartalmat. Az oldal használatával Ön elfogadja a cookie-k használatát.
Adatvédelmi szabályzat
Elutasít
Elfogadás