Hír

Hír

Örömmel osztjuk meg Önnel munkánk eredményét, céges híreinket, és időben tájékoztatást adunk a fejleményekről, a személyzeti kinevezési és eltávolítási feltételekről.
ALD atomi réteges leválasztás receptje27 2024-07

ALD atomi réteges leválasztás receptje

Térbeli ALD, térben izolált atomréteg -lerakódás. Az ostya különböző pozíciók között mozog, és minden pozícióban különböző prekurzoroknak van kitéve. Az alábbi ábra összehasonlítja a hagyományos ALD és a térben elkülönített ALD -t.
Tantalum karbid technológia áttörés, a SIC epitaxiális szennyezés 75%-kal csökkent?27 2024-07

Tantalum karbid technológia áttörés, a SIC epitaxiális szennyezés 75%-kal csökkent?

A közelmúltban a Német Kutatóintézet, a Fraunhofer IISB áttörést hajtott végre a tantalum karbid bevonási technológia kutatásában és fejlesztésében, és kifejlesztett egy spray -bevonat -megoldást, amely rugalmasabb és környezetbarátabb, mint a CVD lerakódási megoldás, és kereskedelmet folytatott.
3D nyomtatási technológia feltáró alkalmazása a félvezető iparban19 2024-07

3D nyomtatási technológia feltáró alkalmazása a félvezető iparban

A gyors technológiai fejlődés korszakában a 3D nyomtatás, mint a fejlett gyártási technológia fontos képviselője, fokozatosan megváltoztatja a hagyományos gyártás arcát. A technológia folyamatos érettségével és a költségek csökkentésével a 3D nyomtatási technológia számos területen széles körű alkalmazási kilátásokat mutatott, mint például az űrrepülés, az autógyártás, az orvosi berendezések és az építészeti tervezés, és elősegítette ezen iparágak innovációját és fejlesztését.
X
Cookie-kat használunk, hogy jobb böngészési élményt kínáljunk, elemezzük a webhely forgalmát és személyre szabjuk a tartalmat. Az oldal használatával Ön elfogadja a cookie-k használatát.Adatvédelmi szabályzat
ElutasítElfogadás